[实用新型]旋转溅射电弧柱靶装置无效
申请号: | 200920056379.2 | 申请日: | 2009-05-12 |
公开(公告)号: | CN201424502Y | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 苏东艺 | 申请(专利权)人: | 广州今泰科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510635广东省广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 旋转 溅射 电弧 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及旋转电弧柱靶装置,特别涉及旋转溅射电弧柱靶装置,属于表面处理设备,主要用于在柱形靶材表面喷涂薄层。
背景技术
在给靶材表面喷涂薄层时,常采用的是利用电极进行喷涂,对于一些柱形靶材的表面喷涂,常采用的是旋转电弧柱靶装置,图1是现有的旋转电弧柱靶装置,它包括底部的柱靶下盖,固定在柱靶下盖上的磁心磁钢20,与磁心磁钢连接并由阴极法兰固定的柱靶阴极13,套置于柱靶阴极外的阴极水套11,安装于阴极水套上并与柱靶阴极内腔相通的出水口9,安装于阴极水套外的真空室顶板,位于柱靶阴极顶部的进水口9,位于真空室顶板一侧的电机支架2及电机支架上的电机1,电机通过齿轮3与柱靶阴极顶端相连。这种旋转电弧柱靶装置在使用时,将靶材放于磁心磁钢外,镀层常常会沉积于阴极法兰上,影响柱靶与真空机壳的绝缘性能,同时,由于电机支架位于真空室顶板一侧,电机在转动过程中会产生较大的晃动,从而使磁心旋转不稳定,无法保证柱靶的密封性能。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种能防止镀层沉积于阴极法兰上,保证柱靶与真空机壳的绝缘性能,磁心旋转稳定,保证柱靶的密封性能的旋转电弧柱靶装置。
本实用新型的目的是通过如下技术方案来实现的:旋转电弧柱靶装置,包括柱靶下盖、磁心磁钢、柱靶上盖、柱靶阴极、真空室顶板、柱靶固定法兰、阴极绝缘法兰、柱靶阴极法兰、阴极水套、水套绝缘法兰、安装于阴极水套上并与柱靶阴极内腔相通的出水口和位于柱靶阴极顶部的进水口,柱靶下盖、磁心磁钢、柱靶上盖、真空室顶板、柱靶固定法兰、阴极绝缘法兰、柱靶阴极法兰、阴极水套、水套绝缘法兰由下向上依次相连,其特征在于电机支架的中心截面为方形,电机支架下底面固定在柱靶阴极法兰上,上表面固定在水套绝缘法兰上,电机固定在电机支架上表面,电机支架上的电机通过齿轮与柱靶阴极顶端相连。
在柱靶上盖与柱靶固定法兰之间设置屏蔽筒,屏蔽筒套于柱靶阴极外并固定在柱靶固定法兰上。
本实用新型由于采用了上述结构,电机固定在中心截面为方形的电机支架上,磁心旋转稳定,不易产生晃动保证的柱靶的密封性能,同时,在柱靶上盖与柱靶固定法兰之间设置屏蔽筒,防止了镀层沉积于阴极法兰上,保证柱靶与真空机壳的绝缘性能。
附图说明
图1为现有旋转电弧柱靶装置结构示意图;
图2为本实用新型旋转电弧柱靶装置结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步阐述:
参见图2,本实用新型的旋转电弧柱靶装置,包括柱靶下盖21、磁心磁钢20、柱靶上盖18、柱靶阴极、真空室顶板5、柱靶固定法兰6、阴极绝缘法兰17、柱靶阴极法兰16、阴极水套11、水套绝缘法兰12、安装于阴极水套上并与柱靶阴极内腔相通的出水口8和位于柱靶阴极顶部的进水口9,柱靶下盖、磁心磁钢、柱靶上盖、真空室顶板、柱靶固定法兰、阴极绝缘法兰、柱靶阴极法兰、阴极水套、水套绝缘法兰由下向上依次相连,电机支架2的中心截面为方形,电机支架下底面固定在柱靶阴极法兰上,上表面固定在水套绝缘法兰上,电机1固定在电机支架上表面,电机支架上的电机通过齿轮3与柱靶阴极顶端相连,在柱靶上盖与柱靶固定法兰之间设置屏蔽筒7,屏蔽筒套于柱靶阴极外并固定在柱靶固定法兰上,在阴极绝缘法兰17与柱靶固定法兰6之间设有阴极密封胶圈4。
以上所述仅为实用新型的较佳实施例而已,并不仅以上限制实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包括在本实用新型的保护范围内。
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