[实用新型]掩模板夹持机构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种掩模板夹持机构，特别涉及一种光刻技术中的掩模板夹持机构。

背景技术

近代半导体科技发展迅速，其中光学光刻技术扮演了重要的角色。光学光刻技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的掩模，利用曝光原理，使光源通过掩模投影至硅晶片上，可曝光显示特定的图案。

在曝光设备中，掩模板或硅片等物料传输系统是非常重要的分系统。其中，掩模板传输系统主要用于将指定的掩模板从掩模板存储机构中取出，平稳、安全、并且无污染地运输到掩模台分系统或曝光分系统中，并在此过程中进行掩模板标记的对准，为曝光做准备。整个过程满足高速、高精度和高可靠性的要求。

光刻设备已经能够在晶片上形成越来越小的图形，而在光刻设备中，掩模板夹持机构则是对光刻过程中掩模板操作的重要装置。在掩模板传输系统中，机械手是夹持、固定和承载掩模板的重要结构。如在公开号为1094827的中国专利中所述：掩模板在传输的过程中通常是采用真空吸附的方法固定在传输掩模板的机械手上。通常情况下，机械手是一个叉形的机械结构，主要通过吸附结构来吸附掩模板，并且在吸附结构与掩模板接触的中间设置有一个或多个真空吸附的窗口。

在曝光设备中，这种真空吸附的方法往往产生真空气路堵塞或漏气的现象，比如真空吸附窗口的破损导致真空气路堵塞，掩模板或机械手上存在的颗粒物使真空吸附处不能紧密地贴合导致漏气等等。这些都会导致真空吸附力下降，使掩模板不能得到牢固并且可靠的固定，使设备的可靠性降低。

另外，若出现上述吸附不牢的状况，使得机械手中可能没有夹持有掩模板，但是系统是无法识别这样的状况的，所以可能造成一些不必要的误判或其他弊端。

有鉴于此，如何提供一种掩模板夹持机构，来减少上述弊端已成为业界亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型所解决的一技术问题在于提供一种掩模板夹持机构，能够牢固、可靠的固定掩模板。

本实用新型所解决的另一技术问题在于提供一种掩模板夹持机构，不需要真空传感器及吸附装置，且结构紧凑，所以不仅结构小巧，而且降低了成本，安装方便。

本实用新型所解决的又一技术问题在于提供一种掩模板夹持机构，能够检测机械手夹持掩模板的状态并将其显示，避免由于无法及时识别机械手中掩模板的状态而出现误判或其他弊端。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种掩模板夹持机构，包括机械手及推杆，其中所述机械手具有夹持所述掩模板的夹持区域，以及在该夹持区域前方两侧对称设置的凸台；而所述推杆设置在所述夹持区域后方中部，能够前后移动并配合所述凸台将掩模板固定在所述夹持区域内。

其中，所述凸台为长方体凸起结构；所述推杆前端具有缓冲垫，在对掩模板进行夹持时起到缓冲作用。所述机械手上固定有一气缸，所述推杆后端与所述气缸连接，且在该气缸的作用下所述推杆能够在前后方向弹出及收回。

所述气缸还通过一气管接头连接至一气管，所述气缸通过气动系统及正压气体来进行控制。

另外，所述掩模板夹持机构还包括设于所述推杆侧面的接近传感器，其能够根据对所述推杆的位置的检测来产生相应的感应信号，从而反应夹持区域内的掩模板的夹持状况。

进一步的，所述接近传感器是两个设于所述推杆两侧并在推杆的移动方向上相互错开的接近传感器。所述接近传感器安装在固定于所述机械手上的传感器支架上。所述推杆呈“T”字形结构，且该“T”字形结构较宽的一端到所述接近传感器的距离在接近传感器的检测距离内。

本实用新型的掩模板夹持机构，其机械手具有夹持所述掩模板的夹持区域，而在该夹持区域前方两侧具有两对称的凸台，所述夹持区域后方中部设置能够前后移动的推杆，通过所述凸台以及所述推杆向前方移动，以顶压住放置在所述夹持区域内的掩模板，而所述凸台和所述推杆形成三角形的施力点，使得夹持十分稳固；另外，在所述推杆侧面设置接近传感器，来检测推杆推进的状况，从而反应所述掩模板夹持机构的夹持状态。

附图说明

图1为本实用新型的一实施例的掩模板夹持机构在零位状态的示意图。

图2为本实用新型一实施例的掩模板夹持机构在夹持掩模板时的状态示意图。

图3为本实用新型一实施例的掩模板夹持机构在无掩模板时的状态示意图。

具体实施方式