[实用新型]掩模盒有效
申请号: | 200920073141.0 | 申请日: | 2009-05-31 |
公开(公告)号: | CN201540453U | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 左仲;王明珠;许俊;赵庆国 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 楼仙英 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 掩模盒 | ||
1.一种掩模盒,其具有方形盒身以及盒盖,所述盒身与盒盖可以闭合以及开启,以便取放以及存储掩膜,在所述盒身与盒盖的内侧边沿布置有多个支持装置,用于支持放置于掩膜盒中的掩膜,其特征在于,所述支持装置具有凸起的弧形支持面,该弧形支持面的一端连接所述盒身或盒盖的侧壁,另一端连接盒盖的顶面或者盒身的底面,构成向盒内部空间凸起的弧形支持面。
2.根据权利要求1所述的掩模盒,其特征在于所述弧形支持面与盒身底面或盒盖顶面的接合部具有台阶状的凸出结构。
3.根据权利要求1或2所述的掩模盒,其特征在于所述具有凸起的弧形支持面的支持装置是允许弹性形变的弹性结构。
4.根据权利要求3所述的掩膜盒,其特征在于,所述弹性结构与盒身或盒盖一体成型。
5.根据权利要求1所述的掩模盒,其特征在于,所述的盒身或盒盖具有至少3个所述支持装置。
6.根据权利要求1所述的掩膜盒,其特征在于,所述的盒身或盒盖具有4个所述支持装置。
7.如权利要求6所述的掩模盒,其特征在于,所述4个支持装置两两对称地分布在所述盒身内侧的边沿上,其中2个支持装置等距地分布在盒身一个内角的两个侧边上,另2个支持装置对应地分布于和所述内角相对的内角的两个侧边上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920073141.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:泵车臂架展开后的支腿锁定装置
- 下一篇:退火炉针孔摄像机防护罩
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备