[实用新型]掩模盒

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种存放光刻技术中所用掩模的掩模盒。

背景技术

在集成电路制造工艺中，光刻技术被广泛应用。光刻用的掩模是影响光刻性能的关键物品，如果掩模出现问题，例如其被损坏的情况，将直接影响到许多涉及光刻的制程，使生产过程不能正常进行。

掩模上刻有预定的图案，可以在光刻过程中将其复制到硅片上形成半导体器件的电路结构。掩模一般是在石英玻璃基材上以特殊材料形成所述图案，例如目前常用的嵌入式相移掩模中的一种，即采用硅化钼(MoSiOx)类材质的膜在基材上形成所述图案。这种膜本身较软，容易受到物理损害，而掩模上的图案又通常是微米级，或者深亚微米级的，一点微小的损伤即可影响到图案的结构。这些因素都在客观上决定了光刻制程中采用的掩模是需要仔细保护的物品，应尽量避免在使用或者存储、运输过程中受到损伤。

掩模通常情况存放于特定的与其大小相适应的掩模盒中，目前业界常用的掩模盒存在明显的缺点。请参见图1所示的掩模盒结构示意图，如图所示，掩模盒1的形状为方形，其大小和掩模尺寸相适应。整个掩模盒分为盒身11和盒盖12，盒身11和盒盖12通过铰链连接，可互相合拢或分开，以形成掩模盒1的关闭或开启状态。在盒身11和盒盖12各自内侧的四个角上均有用于固定掩膜的固定装置13，其作用是在掩模盒1中放置有掩膜时固定其中放置的掩模，使之不可在存储或者运输过程中于盒中移动。这种掩模盒的缺点在于，上述的固定结构13是刚性的尖锐结构，出于固定需要，掩模放置状态时，固定结构13必然很接近掩模。如前所述，构成掩模的材料一般包括石英玻璃基材和基材上形成图案的特殊材料薄膜，不管哪种材料，尤其以构成图案膜层的材料为甚，它们的物理强度都是非常脆弱的，在向掩模盒1放置掩模或者取出掩模的过程，掩模非常容易被固定结构13所具有的尖角划伤。一旦发生此种情况，被划伤的掩模即告报废，因此，使用目前常用的掩模盒在取放掩模时具有相当高的风险。

实用新型内容

为了在使用掩模盒存放掩模时，避免出现掩模被损伤而报废的情况，提出本实用新型。

本实用新型的目的在于，提供一种掩模盒，其盒体内部的支持装置及支持装置的位置均经过专门的设计，可以在很大程度上减少掩膜盒导致掩模损伤的现象。

本实用新型的掩模盒具有方形盒身以及盒盖，所述盒身与盒盖可以闭合以及开启，以便取放以及存储掩膜。在所述盒身与盒盖的内侧边沿布置有多个支持装置，用于支持放置于掩膜盒中的掩膜；

其中，所述支持装置具有凸起的弧形支持面，该弧形支持面的一端连接所述盒身或盒盖的侧壁，另一端连接盒盖的顶面或者盒身的底面，构成向盒内侧空间凸起的弧形支持面。

优选地，所述弧形支持面与盒身底面或盒盖顶面的接合部具有台阶状的凸出结构，该凸出结构用于防止掩模沿弧面滑动而接触到盒身底面，或者掩膜盒倒置时掩膜沿弧面滑动而接触到盒盖顶面，引起碰伤或擦伤，另外此种结构还可以使掩模固定于水平方向。

上述具有弧形支持面的支持装置具有允许弹性形变的弹性结构，其采用经过弹性处理的材料制成，如聚甲基丙烯酸甲酯，优选地，盒身以及盒盖的材料亦可采用同样的材料，它们与所述支持装置一体成型。所述盒身与盒盖的内侧边沿分别具有多个支持装置。支持装置的数量可以根据需要灵活调整，出于平衡支持的考虑，支持装置在盒身，或者盒盖的内侧边沿分布的数目一般均不少于3个。

通常为了方便取放以及保护掩模，支持装置在盒身或者盒盖中的位置需要经过特别设计。以盒身部分的设计为例，在其内侧具有4个支持装置的情况，这些支持装置一般不设于所述方形盒身的内角顶点部分，4个支持装置可以两两对称地分布在所述盒身内侧的边沿上，以平衡支持掩膜盒中放置的掩膜。例如可以采用如下的设置方式，两个所述的支持装置等距地分布在盒身一个内角的两个侧边上，另两个支持装置则对应地分布于对角的两个侧边上，在这种设置方式下，所述4个支持装置靠近盒身内角中的一组对角两两对称地分布，而较为远离另一组对角。盒盖内侧边沿的支持装置也可以作同样的设置。上述设计方式不光可以在掩膜得到稳定支持的前提下达到取放更加方便的效果，也不容易因取放不当而产生划伤。

此外，基于以上考虑，本领域技术人员还可以根据需要另行设计支持装置的布置方案。

本实用新型的优点在于：

1、由于采用具有凸起的弧形支持面的支持装置，掩模放置于盒中时，其与支持装置的接触面积大为减少，这样可以得到最大的掩模与支持装置及掩膜盒其它部件之间的空间，有利于避免掩模被支持装置损伤；