[实用新型]掩模板清洁装置有效

专利信息
申请号: 200920106014.6 申请日: 2009-02-27
公开(公告)号: CN201359680Y 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 冯京;汪荣 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 刘 芳
地址: 100176北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 模板 清洁 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及液晶显示器制造技术领域,尤其涉及一种掩模板清洁装置。

背景技术

目前,在薄膜晶体管-液晶显示器(Thin Film Transistor-LiquidCrystal Display,以下简称:TFT-LCD)生产中,玻璃基板上图案的形成是通过光化学反应,将掩膜板上的图案转移到涂有光刻胶的玻璃基板上来实现的。将掩模板覆盖在涂有光刻胶的玻璃基板表面,用紫外光选择性照射光刻胶,使受到光照的光刻胶发生化学变化,经上述曝光工序之后,发生化学变化的部分光刻胶在显影液中的溶解度被改变。显影之后,光刻胶显现出与掩模板相对应的图案。因此,如果掩模板有缺陷,就会影响到玻璃基板上图案的质量。

掩模板很容易产生缺陷,使掩模板产生缺陷的原因有两种:一种是由于制作、搬运或者使用不当造成光掩模板自身固有的缺陷,这种缺陷可通过严格出厂检验、规范使用等方法来防止,使有缺陷的掩模板不进入后序的生产工艺;另一种是由于生产过程中产生的微粒附着于掩模板的表面,或者由于人为或其它原因使掩模板表面产生污渍等,使掩膜板受到污染。这种缺陷可以通过清洁掩模板的方法来避免。

在现有掩模板更换装置(mask changer)的操作工序中,从在暗盒(mask cassette)中取出掩模板到对掩膜板进行曝光操作之间,没有清洁装置对掩膜板进行清洁,无法消除掩膜板所受到的污染,导致玻璃基板上的图像失真,从而降低了经曝光之后玻璃基板的质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种掩模板清洁装置,能够消除掩膜板所受到的污染,避免玻璃基板上的图像失真,提高经曝光之后玻璃基板的质量。

为实现上述目的,本实用新型提供了一种掩模板清洁装置,包括:

放置掩模板的清洁台,清洁台的上方设置有吹气装置,该吹气装置连接有进气管和驱动该吹气装置水平移动的驱动装置。

进一步,驱动装置还包括至少一个螺纹旋杆,该螺纹旋杆连接有驱动吹气装置从螺纹旋杆的一端向另一端移动的电机。

该掩模板清洁装置还包括:封闭清洁台、吹气装置和驱动装置的外壳;外壳扣设于所述清洁台上,外壳上设有供所述进气管穿过的通气孔和排放清洁后气体的排气口。

该外壳还连接有分离所述外壳与所述清洁台的升降装置。该升降装置包括横梁,横梁的两端连接有两个臂形连接件,臂形连接件分别与外壳的两端连接。

本实用新型掩模板清洁装置的电机驱动螺纹旋杆旋转时,吹气装置沿螺纹旋杆在掩模板上方进行水平移动,同时吹气装置对掩模板进行吹扫,使掩模板上的污染物随清洁后的气体排离掩模板表面,能消除掩膜板所受到的污染,达到了清洁掩模板的目的。

附图说明

图1为本实用新型掩模板清洁装置第一实施例的内部结构示意图;

图2为本实用新型掩模板清洁装置第一实施例的外壳主视图;

图3为本实用新型掩模板清洁装置第二实施例的外壳结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例进一步说明本实用新型实施例的技术方案。

本实用新型掩模板清洁装置,包括:清洁台、进气管、吹气装置和驱动装置。

清洁台要求平整好、能防止静电,用于放置需清洗的掩模板。清洁台的上方设有吹气装置。吹气装置与进气管连接,进气管用于向该吹气装置通入气体;吹气装置还与驱动该吹气装置水平移动的驱动装置连接。

驱动装置可以由螺纹旋杆和电机构成。吹气装置上设有与螺纹旋杆上螺纹相对应的螺帽。当电机驱动螺纹旋杆旋转时,吹气装置上的螺帽沿螺纹旋杆向前或向后移动,从而使吹气装置从螺纹旋杆的一端向另一端移动。另外,吹气装置与驱动装置也可以通过皮带或链条连接,同时驱动装置采用气缸。

吹气装置要与掩模板的表面有一定的角度,避免刮伤掩模板的表面。吹气装置可采用气枪,气枪为塑料材质且内部不带润滑剂,以防止气枪内部的污渍污染掩模板的表面。

在对掩横板清洁之前,先将掩模板放置在清洁台上。然后通过进气管向吹气装置通入气体,吹气装置开始对掩模板表面进行吹扫。同时,驱动装置驱动吹气装置在掩模板上方进行水平移动,对掩模板的表面来回吹扫。为防止掩模板受到气体污染,吹气装置的气体必须是氮气或压缩空气。

本实用新型掩模板清洁装置,通过在掩模板上方水平移动的吹气装置对掩模板进行吹气,使掩模板上的污染物随清洁后的气体排离掩模板表面,能够消除掩膜板所受到的污染,达到了清洁掩模板的目的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920106014.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top