[实用新型]一种低压真空灭弧室的触头结构有效
| 申请号： | 200920119944.5 | 申请日： | 2009-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN201421798Y | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 褚翔;张玉洁;褚永明 | 申请（专利权）人： | 宁波晟光电气有限公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 杭州丰禾专利事务所有限公司 | 代理人： | 王晓峰 |
| 地址： | 315021浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 低压 真空 灭弧室 结构 | ||
1、一种低压真空灭弧室的触头结构，包括导电杆(1)，导电杆(1)的一端与杯状纵磁触头座(2)相连，触头座(2)另一端连接有触头盘(3)，触头座(2)型腔中设置有支撑触头盘(3)的支撑座(4)，其特征是，所述导电杆(1)与支撑座(4)为整体结构。
2、根据权利要求1所述的低压真空灭弧室的触头结构，其特征是，所述触头座(2)的杯壁上开设有旋弧槽(20)，旋弧槽(20)沿杯壁旋转的角度为90°。
3、根据权利要求2所述的低压真空灭弧室的触头结构，其特征是，所述旋弧槽(20)的数目为6条，并沿触头座(2)的杯壁均匀分布。
4、根据权利要求2所述的低压真空灭弧室的触头结构，其特征是，所述旋弧槽(20)与触头座(2)杯口平面所成的角度为17°。
5、根据权利要求1所述的低压真空灭弧室的触头结构，其特征是，所述触头座(2)内还设置有聚磁环(5)，所述聚磁环(5)的上、下端面分别与触头盘下端面、触头座底面相顶。
6、根据权利要求5所述的低压真空灭弧室的触头结构，其特征是，所述聚磁环(5)横截面为圆环形，材料为电工纯铁。
7、根据权利要求1所述的低压真空灭弧室的触头结构，其特征是，所述触头盘(3)为圆片状，并沿径向设置有通槽(30)。
8、根据权利要求7所述的低压真空灭弧室的触头结构，其特征是，所述通槽(30)数目为6条，在触头盘(3)上均匀分布。
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