[实用新型]一种低压真空灭弧室的触头结构有效

专利信息
申请号: 200920119944.5 申请日: 2009-05-15
公开(公告)号: CN201421798Y 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 褚翔;张玉洁;褚永明 申请(专利权)人: 宁波晟光电气有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 杭州丰禾专利事务所有限公司 代理人: 王晓峰
地址: 315021浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 低压 真空 灭弧室 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种电路开关,尤其涉及一种低压真空灭弧室的触头结构。

背景技术

40余年来,我国真空灭弧室的设计理论、制造工艺、质量水平都有了质的飞跃。粗略的划分,可以认为国内灭弧室的发展已经经历了五代。

国产的第一代真空灭弧室,以额定电压12kV,φ145mm玻璃绝缘外壳,电极结构为阿基米德螺旋槽横磁、使用CuBi系合金触头,开断能力达到20kA,额定电流1250A的ZKBD1250/10-20型真空灭弧室为代表;第二代真空灭弧室就是引进西门子的3AF系列真空灭弧室,其特点是屏蔽筒外露、陶瓷绝缘外壳、电极结构为杯状横磁、使用CuCr50合金环状触头,开断能力达到31.5kA,额定电流达2500A,后经开发额定电流可达3150A、开断能力可达到40kA;在消化吸收引进技术的基础上开发了第三代真空灭弧室,其特点是屏蔽筒内置、φ88~125mm陶瓷绝缘外壳、电极结构为杯状纵磁、CuCr50触头材料,开断能力达到40kA,额定电流可达3150A,这期间也研制了一些线圈式纵磁场电极的灭弧室,主要提高了开断能力,但仍以杯状纵磁为主;以一次封排技术为代表的第四代真空灭弧室的整体质量有了很大的提高,此时各种成熟技术的综合应用开发出大量的12kV、24kV、40.5kV,低压0.38kV~1.14kV各种参数的真空灭弧室批量供应市场,产品覆盖了整个中压领域;小型化、有外绝缘保护的真空灭弧室可称为第五代产品。

真空灭弧室自从问世以来,一直在不断的向小型化、高可靠性、低成本方面发展,触头结构从简单的圆盘式结构到横向磁场结构,发展到纵向磁场结构。目前,杯状纵向磁场触头结构是应用最广泛的结构之一。

已有的低电压电路用的低压真空灭弧室,通常由筒形的外壳和安装在外壳中的动、静触头结构组成,外壳的一端是用陶瓷制造的陶瓷端,另一端是用金属制造的金属端,外壳用于真空密封和绝缘,使外壳内形成真空绝缘环境。

由于动、静触头是一对对称的结构,以下简称为触头并介绍其结构:

已有的触头结构,如图1所示,包含导电杆100,导电杆100的一端与杯状纵磁触头座200相连,触头座200前端连接有触头盘300,触头座200型腔中设置有起支撑触头盘300作用的支撑座400。

动、静触头结构以对接的方式密封绝缘的安装在外壳中,动触头结构安装在外壳的陶瓷端,静触头结构安装在外壳的金属端,动、静触头结构的导电杆100分别伸出外壳两端,动、静触头结构的导电杆100的杆部各自设置有内螺纹,动触头结构通过螺纹连接与真空断路器的驱动系统相连,静触头通过螺纹连接与真空断路器电路相连,动触头在驱动系统的作用下可相对于静触头运动,从而完成开关动作。

由于导电杆上的内螺纹有一定的深度要求,这样对动、静导电杆的长度又有一定的要求,不适于产品小型化的要求。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中的不足,提供了一种结构紧凑,体积小,占用空间小的低压真空灭弧室的触头结构。

为了解决上述技术问题,本实用新型通过下述技术方案得以解决:

一种低压真空灭弧室的触头结构,包括导电杆,导电杆的一端与杯状纵磁触头座相连,触头座另一端连接有触头盘,触头座型腔中设置有支撑触头盘的支撑座,所述导电杆与支撑座为整体结构。现有技术中,螺纹只能设置在导电杆的杆部,本实用新型中,导电杆与支撑座一体成型,螺纹可以延伸到支撑座部分,在保证螺纹深度的同时,可缩短导电杆的长度,减小触头结构的体积,适于真空灭弧室小型化的要求。

进一步的,所述触头座的杯壁上开设有旋弧槽,旋弧槽沿杯壁旋转的角度为90°。

更进一步的,所述旋弧槽的数目为6条,沿触头座的杯壁均匀分布。

更进一步的,所述旋弧槽与触头座杯口平面所成的角度为17°。减小触头座的高度,进一步减小触头结构的体积。

进一步的,所述触头座内还设置有聚磁环,所述聚磁环的上、下端面分别与触头盘下端面、触头座底面相顶。使真空灭弧室磁场强度高,开断电流大,开断性能稳定。

更进一步的,所述聚磁环横截面为圆环形,材料为电工纯铁。

进一步的,所述触头盘为圆片状,并沿径向设置有通槽。

更进一步的,所述通槽数目为6条,在触头盘上均匀分布。

有益效果:本实用新型与现有技术相比,具有如下有益效果:

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