[实用新型]无水迹基片清洗干燥装置

权利要求书

1.一种无水迹基片清洗干燥装置，其特征是，其包括：

基片清洗容器，用于清洗基片；

基片气体干燥室，用于基片从基片清洗容器中提升时供给室温干燥气体；

基片干燥容器，用于供给高温干燥气体对基片进行高温气体干燥；以及

基片传递组件，用于将基片从基片清洗容器传送至基片干燥容器；

其中，基片气体干燥室布置在基片清洗容器的上方，基片清洗容器与基片干燥容器并行排列，基片传递组件布置在基片清洗容器与基片干燥容器的一侧。

2.如权利要求1所述的无水迹基片清洗干燥装置，其特征是：基片从所述的基片清洗容器中缓慢提升至所述的基片气体干燥室。

3.如权利要求1所述的无水迹基片清洗干燥装置，其特征是：用于所述的基片气体干燥室的室温干燥气体是室温异丙醇(IPA)气体。

4.如权利要求1所述的无水迹基片清洗干燥装置，其特征是：用于所述的基片干燥容器的高温干燥气体是高温干燥清洁空气(CAD)或氮气(N2)。

5.如权利要求1所述的无水迹基片清洗干燥装置，其特征是：用于所述的基片干燥容器的基片支撑架的底部支撑块上部成刀尖状。

6.如权利要求1所述的无水迹基片清洗干燥装置，其特征是：所述的基片传递组件的基片取放组件布置在基片上方，打开和关闭基片取放组件从基片支撑架上取放基片。