[实用新型]膜加强的气浮沉淀装置

权利要求书

1.一种膜加强的气浮沉淀装置，其特征在于包括一个沉淀池(110)，至少一个给水管路(120)，至少一个沉淀排泥管(130)，一个溢流水位平衡装置(140)，至少一个浸没式膜组件(210)，至少一组曝气装置(310)，至少一个围绕膜组件(210)的导流桶(410)；其中膜组件(210)安装在沉淀池(110)的中部，其中曝气装置(310)安装在膜组件(210)的正下方。

2.根据权利要求1所述的膜加强的气浮沉淀装置，其特征还在于包括至少一个气浮排污槽(150)。

3.根据权利要求1或2所述的膜加强的气浮沉淀装置，其特征还在于包括至少一个絮凝剂添加装置(710)，至少一个絮凝剂混合装置(720)，至少一个给水泵(610)和给水泵回流管路(620)，至少一个产水泵(810)，至少一个反洗水泵(910)及相关自动控制装置。

4.根据权利要求1或2所述的膜加强的气浮沉淀装置，其特征还在于所述沉淀池(110)的横截面是圆形或多边形的一种。

5.根据权利要求1或2所述的膜加强的气浮沉淀装置，其特征还在于所述导流桶(410)的横截面是圆形或多边形的一种。

6.根据权利要求1或2所述的膜加强的气浮沉淀装置，其特征还在于所述所述导流桶(410)上设置导流桶溢流孔(440)，导流桶溢流孔(440)的位置在沉淀池(110)水位正负500毫米以内。

7.根据权利要求1或2所述的膜加强的气浮沉淀装置，其特征还在于所述所述导流桶(410)下端位于曝气装置(310)曝气面正负500毫米以内。

8.根据权利要求2所述的膜加强的气浮沉淀装置，其特征还在于所述气浮排污槽(150)上沿位于沉淀池(110)水位以上10-50毫米。

9.根据权利要求1或2所述的膜加强的气浮沉淀装置，其特征还在于所述膜组件(210)上端位于沉淀池(110)水位以下0-1000毫米。

10.根据权利要求1或2所述的膜加强的气浮沉淀装置，其特征还在于所述膜组件(210)下端距沉淀池(110)底部500-2000毫米。