[实用新型]改进的离心铸铁管的浇注装置无效

专利信息
申请号: 200920217429.0 申请日: 2009-10-10
公开(公告)号: CN201524782U 公开(公告)日: 2010-07-14
发明(设计)人: 王黎晖;周延峰;申勇;陈顺均 申请(专利权)人: 新兴铸管股份有限公司
主分类号: B22D13/02 分类号: B22D13/02;B22D13/12
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 李荣文
地址: 056300 河北省*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 改进 离心 铸铁管 浇注 装置
【权利要求书】:

1.一种改进的离心铸铁管的浇注装置,与离心铸造系统的伺服机构配套使用,所述的浇注装置结构中包括铁水存储装置和配套的定量浇注控制机构,其特征在于所述的铁水存储装置结构中包括底部设有可控排流机构的中间包(1)和浇注包(10),浇注包(10)位于中间包(1)下部并且浇注包(10)上部的排口对准中间包(1)的出口,PLC控制系统借助在线检测机构和中间伺服机构实现对中间包(1)的出口流量的控制。

2.根据权利要求1所述的改进的离心铸铁管的浇注装置,其特征在于所述的PLC控制系统结构中包括具有CPU和存储有管理软件、中间数据的存储器的PLC控制管理电路(6)、在中间包(1)的出口处竖直设置的塞棒(2)及其驱动机构,PLC控制管理电路(6)发送控制信号控制作为驱动机构的液压伺服机构(4)驱动塞棒(2)升降。

3.根据权利要求1所述的改进的离心铸铁管的浇注装置,其特征在于所述的浇注包(1)的出口处竖直设置塞棒(11)及其配套的手动调节塞棒(11)的升降机构。

4.根据权利要求2所述的改进的离心铸铁管的浇注装置,其特征在于所述的PLC控制系统结构中包括浇注包(10)的液位检测装置(8),液位检测装置(8)向PLC控制管理电路(6)输入浇注包(10)的液位状态信号。

5.根据权利要求2所述的改进的离心铸铁管的浇注装置,其特征在于浇注包(10)的标准液位值借助PLC控制系统结构中的操作键盘(7)输入PLC控制管理电路(6)的输入端。

6.根据权利要求2所述的改进的离心铸铁管的浇注装置,其特征在于所述的PLC控制系统结构中包括塞棒(2)的位置检测装置(3),位置检测装置(3)输出的塞棒(2)的位置状态信号输入PLC控制管理电路(6)的输入端。

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