[实用新型]一种X荧光光谱镀层分析仪

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种微量元素检测仪器，具体涉及一种X荧光光谱镀层分析仪。

背景技术

X荧光光谱分析仪器是使用X射线照射试样，对产生的X射线荧光进行解析，用以分析试样元素和含量的装置。由于X荧光光谱仪器使用方便、快捷，精度高，成本低等特点，已经在很多行业得到广泛的应用。

现有技术中，其分析样品可以是固体、粉末、熔融片，液体等，分析对象适用于炼钢、有色金属、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行业样品。无标半定量方法可以对各种形状样品定性分析，并能给出半定量结果，结果准确度对某些样品可以接近定量水平，分析时间短。

X荧光光谱镀层分析仪器是X荧光光谱分析仪中的一种，主要用于对尺寸范围较大的部件上进行镀层厚度分析和含量的逐点测试，其主要原理是光源系统发射出X荧光，X荧光作用在样品上后，样品中的各个X会被激发出特征X荧光，这些X荧光被探测器系统所接收，分析转化为电信号，电信号经过系统模块的处理，进而得到用户所需要的分析信息。

针对上述原理，本发明人于2006年申请了名称为一种自动定位X荧光能量色散光谱仪的专利，专利的申请号为200620014536.X。该专利为一种真空检测X荧光能量色散光谱仪，包括机身，机身内安装有光源系统、测试系统以及信号处理系统，其中，光源系统包括高压单元和X光管，上述部件都被固定在一个金属框架上，金属框架上部还设有一样品台，样品放置于该样品台上。

经发明人实践发现上述专利还存在以下问题需要改进：

1.测试组件为固定结构，不能上下移动，这样可测试样品的范围较小。

2.样品平台为固定结构，不能左右移动，很难准确定位样品位置。

3.没有实时观测装置，不能使测试人员随时了解测试过程。

因此对现有的X荧光光谱镀层分析仪的上述缺陷进行改进已成为本技术领域中亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述技术的不足，提供一种X荧光光谱镀层分析仪，其解决了原有X荧光光谱镀层分析仪存在的技术缺陷和设计弊端。

本实用新型为满足上述目的，采用以下技术方案：一种X荧光光谱镀层分析仪，包括主支架、测试组件、以及样品平台，所述测试组件固定于所述主支架的上的一升降平台框上，所述样品平台位于所述主支架的底部且位于所述升降平台框的下方，所述升降平台框与所述主支架之间设有滑轨，所述升降平台框上连有一Z轴电机。

更进一步，所述样品平台上连有X轴电机与Y轴电机。

更进一步，所述测试组件底部两侧设有位置传感器。

更进一步，所述测试组件底部中间位置设有高度激光装置。

更进一步，所述测试组件包括一摄像头。

基于上述设计，本实用新型的优点在于：提高了仪器的自动化，扩大了可测试样品的范围；位置传感器保护了测试组件和被测样品；可实时观测样品的测试过程；样品平台和测试组件位置可调节。

本实用新型的其他目的和优点可以从本实用新型所揭露的技术特征中得到进一步的了解。为让本实用新型之上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例并配合所附图式，作详细说明如下。

附图说明

图1是本实用新型之一实施例的一种X荧光光谱镀层分析仪结构示意图；

图2是图1中的X荧光光谱镀层分析仪从另一角度观测的结构示意图；

图1及图2中的标号说明：支架1、测试组件2、样品平台3、升降平台框4、滑轨5、Z轴电机6、X轴电机7、Y轴电机8、位置传感器9、高度激光装置10、摄像头11。

具体实施方案：

请参考图1所示，本实用新型的一种X荧光光谱镀层分析仪，包括主支架1、测试组件2、以及样品平台3，测试组件2固定于主支架1的上的一升降平台框4上，样品平台3位于主支架1的底部且位于升降平台框4的下方，升降平台框4与主支架1之间设有滑轨5，升降平台框4上连有一Z轴电机6，样品平台3上连有X轴电机7与Y轴电机8，测试组件2底部两侧设有位置传感器9，测试组件2底部中间位置设有高度激光装置10，测试组件2包括一摄像头11。

本实用新型的X荧光光谱镀层分析仪的工作原理为：将样品放入样品平台3的测试区域内，利用Z轴电机6对测试组件2进行高度方向的移动，当测试组件2下降到一定区域时，由于位置传感器9的保护，使测试组件2立刻停止活动，这样便保护了样品和测试组件2内贵重物品的伤害，再利用样品平台3的X、Y轴电机7、8的精确移动，确保了样品能准确的到达测试位置，同时通过摄像头11测试人员可以很清楚的知道样品与X荧光的关系。高度激光装置10的作用在于定位测试高度，实现激光光斑和X荧光的重合，实现X荧光的可见性。