[实用新型]化学镀Ni-P阳极复合结构镀层无效
| 申请号： | 200920248993.9 | 申请日： | 2009-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN201626982U | 公开（公告）日： | 2010-11-10 |
| 发明（设计）人： | 王宙;付传起;于媛 | 申请（专利权）人： | 大连大学 |
| 主分类号： | C23C18/32 | 分类号： | C23C18/32 |
| 代理公司： | 大连智慧专利事务所 21215 | 代理人： | 孙宇宏 |
| 地址： | 116622 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 ni 阳极 复合 结构 镀层 | ||
1.一种化学镀Ni-P阳极复合结构镀层，其特征在于：所述复合镀层是具有阳极性质的复合镀层；复合镀层结构由低电位层、过渡层、高电位层构成；镀层：厚度μm：10-100；结合力(N)：50-80；硬度(HV)：1500-2800；复合镀层在3％NaCl溶液中的腐蚀速度(mg/h)：0.021-0.050，在2MHC l溶液中的腐蚀速度(mg/h)：0.72-1.02；电位差(V)：0.02-0.10。
2.根据权利要求1所述化学镀Ni-P阳极复合结构镀层，其特征在于：所述复合镀层由表面向基体依次由低电位层、过渡层和高电位层构成；镀层：厚度：10μm；结合力：50N；硬度：HV1500；复合镀层在3％NaCl溶液中的腐蚀速度(mg/h)：0.050，在2MHC l溶液中的腐蚀速度(mg/h)：1.02；电位差0.02V。
3.根据权利要求1所述化学镀Ni-P阳极复合结构镀层，其特征在于：所述复合镀层由表面向基体依次由低电位层、高电位层和过渡层构成；镀层：厚度：50μm；结合力：80N；硬度：HV2300；复合镀层在3％NaCl溶液中的腐蚀速度(mg/h)：0.040，在2MHCl溶液中的腐蚀速度(mg/h)：0.90；电位差：0.05V。
4.根据权利要求1所述化学镀Ni-P阳极复合结构镀层，其特征在于：所述复合镀层由表面向基体依次由高电位层、过渡层和低电位层构成；镀层：厚度：80μm；结合力：80N；硬度：HV2800；复合镀层在3％NaCl溶液中的腐蚀速度(mg/h)：0.021，在2MHCl溶液中的腐蚀速度(mg/h)：0.72；电位差：0.10V。
5.根据权利要求1所述化学镀Ni-P阳极复合结构镀层，其特征在于：所述复合镀层由表面向基体依次由低电位层和高电位层构成；镀层：厚度：30μm；结合力：70N；硬度：HV2000；复合镀层在3％NaCl溶液中的腐蚀速度(mg/h)：0.030，在2MHCl溶液中的腐蚀速度(mg/h)：0.80；电位差：0.07V。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
