[实用新型]溅镀机构以及包含其的溅镀装置

说明书

技术领域

本实用新型是关于一种溅镀机构以及包含有此溅镀机构的溅镀装置，尤其指一种具高可调性磁场的溅镀机构以及包含有此溅镀机构的溅镀装置。

背景技术

如图1所示，是一公知的溅镀装置的剖面示意图，其包括：腔体111及112、溅镀机构12、基板支撑座16、以及平移装置17。该溅镀机构12包括有：单一个电极板13、单一个靶材14、以及一磁场单元15，靶材14以及电极板13是配置于腔体112内的一侧，且磁场单元15是配置于腔体111内。基板支撑座16是配置于腔体112内，且基板支撑座16与溅镀机构12的电极板13及靶材14相对配置。磁场单元15与平移装置17连接，且磁场单元包括有一磁石支撑座151以及九个磁石152(磁石152是以三个为一组，但其皆与同一个磁石支撑座151连接)。

由于公知溅镀装置中，磁场单元15、电极板13以及靶材14等零件皆须各自容置于腔体111及112中。且溅镀进行时，必须于真空环境下执行(腔体111及112皆须进行抽气使呈真空状态)，因此当欲进行维修或更换部品时较为不便。尤其，磁场单元15的更换除了须先破真空将压力回复至大气压力后，还须将靶材14以及电极板13拆卸始能进行，故磁场单元15维修的步骤更是繁琐。此外，磁场单元15中，磁石支撑座151与各个磁石152间的作动方式是互相牵制，亦即以三个为一组的各个磁石组之间必须同时朝向相同方向运动，无法各自独立相对靶材作动，故溅镀时磁场调整的余裕度则因此大幅降低。

实用新型内容

本实用新型的目在于提供一种溅镀机构以及包含其的溅镀装置，以能使溅镀机构于维修或更换部品时，其磁场单元等零件的更换更为简化。并且，可使溅镀进行时，各个磁石组之间的作动方式不受到彼此间的互相牵制，而可各自独立运动，使提升磁场调整的余裕度，进而使溅镀成膜的膜厚分布可更为均匀。

为实现上述目的，本实用新型提供的溅镀机构，包括：多数个电极靶材单元，配置于同一平面，每一电极靶材单元的同一侧配置有至少一第一磁场单元；以及多数个平移装置；其中，每一第一磁场单元独立配置有平移装置，且第一磁场单元包括有至少一磁石以及第一磁石支撑座，至少一磁石以及第一磁石支撑座系互相连接。

本实用新型的溅镀机构中，电极靶材单元由传统的单一个的设计改为多个电极靶材单元的设计，因此可使靶材面积缩小(使用多个电极靶材单元使达成大面积基板的溅镀效果)，降低靶材的成本。磁石滑动方式由原本为所有磁石组相连接改为可独立作动，如此可使磁场单元作用模式更具变化性，以更提高溅镀成膜的均匀性。并且，可独立作动的磁场单元设计，使得维修时更换零件的步骤更为简单。

本实用新型的溅镀机构中，电极靶材单元较佳可包括一电极板以及至少一靶材，且靶材相对于第一磁场单元而配置于电极板的另一侧。此外，每一电极板亦较佳可配置有至少二个靶材。而此至少二个靶材的材料可为不同，以同时可进行二种以上的材料的溅镀，更节省时间。且此些靶材间的夹角可于60至180度之间作调整，以使溅镀成膜的膜厚分布可由此夹角的调整而更为均匀。

本实用新型的溅镀机构中，电极靶材单元较佳亦可为一导电靶材，即具有导电性质的靶材。

本实用新型的溅镀机构较佳可还包括至少一第二磁场单元，第二磁场单元包括有至少一磁石以及一第二磁石支撑座，第二磁场单元的磁石以及第二磁石支撑座互相连接，且第一磁场单元的第一磁石支撑座具有至少一贯穿孔洞，第二磁场单元的磁石贯穿第一磁石支撑座的孔洞，且由孔洞突出的第二磁场单元的磁石与第一磁场单元的磁石互相交错配置。经由第一磁石支撑座的孔洞而贯穿出的第二磁场单元的磁石，可与第一磁场单元的磁石形成一具有二极以上的磁场单元，而磁场单元的极数的增加可更提高溅镀时形成于基板上的薄膜的均匀性。

本实用新型的溅镀机构较佳可还包括一升降装置，升降装置较佳可配置于第二磁场单元。使第二磁场单元可相对第一磁场单元移动。亦即，第二磁场单元的磁石可进行上下移动的动作(相对电极板的表面)，同时，第一磁场单元与第二磁场单元所结合的整体可进行平行移动。如此，更增加了磁场的可调性。使溅镀时形成于基板上的薄膜的的均匀性可更加提升。

本实用新型的溅镀机构中，每一第一磁场单元较佳可独立配置有平移装置以及一升降装置，以使第一磁场单元可同时进行水平以及垂直(相对电极板的表面)运动。

本实用新型的溅镀机构中，每一第一磁场单元较佳亦可独立配置有平移装置以及一摆动装置，以使第一磁场单元可同时进行水平移动以及摆动。