[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，其使用伴随等离子体中的离子移动而生成的规定的膜， 覆盖由体积电阻率小于硅的金属材料形成的多个被处理物，其特征在于，

具备：

成膜部，其具备作为产生所述等离子体的电极的一方的、支撑所述被处理 物的支撑电极以及作为产生所述等离子体的电极的另一方的、与该支撑电极分 离并且与该支撑电极对向的对向电极，其中所述支撑电极为金属材料并且设置 有多个孔，以便气体能够向下方流通；

设置了多个所述成膜部的封闭空间；

对各个所述成膜部每个设置了一个，且在所述支撑电极和所述对向电极之 间施加电压的单独电源，

所述成膜部的对向电极具有直径1mm～4mm的、向所述被处理物喷射成 为所述规定的膜的原料的气体的喷射口。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

具备调节所述封闭空间内的压力的压力调节单元，

在通过所述压力调节单元将所述封闭空间内的压力调节到从10hPa至常 压的压力的状态下，通过所述单独电源在各成膜部的所述支撑电极和所述对向 电极之间施加电压来产生等离子体，由此通过所述规定的膜覆盖所述多个被处 理物。

3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

在通过所述压力调节单元将所述封闭空间内的压力调节到从100hPa至常 压的压力的状态下，通过所述单独电源在各成膜部的所述支撑电极和所述对向 电极之间施加电压来产生等离子体，由此通过所述规定的膜覆盖所述多个被处 理物。

4.根据权利要求1～3的任意一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜部的支撑电极以所述被处理物与所述对向电极的间隔为 1mm～20mm的方式，支撑所述被处理物。

5.根据权利要求1～3的任意一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述规定的膜是类金刚石炭膜。

6.根据权利要求1～3的任意一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述被处理物由铁基材质形成。

7.根据权利要求6所述的成膜装置，其特征在于，

所述被处理物由不锈钢材料、模具钢材料或高速钢材料形成。

8.根据权利要求1～3的任意一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述单独电源在所述支撑电极和对向电极之间施加直流脉冲电压。