[发明专利]曝光方法及曝光装置

权利要求书

1.一种曝光方法，其特征在于，包括：

特性信息取得工序，取得使用并排设置的多个投影光学模块在感光基板上形成的转印图案的转印特性信息；

连接信息取得工序，取得表示与多个所述转印图案中的在所述感光基板上被接上的第一转印图案及第二转印图案的连接部对应的所述投影光学模块的连接部信息；

导出工序，以所述转印特性信息及所述连接部信息为基础导出修正动作量，其中该修正动作量是使所述转印图案的转印特性变化的特性调整机构的动作量，并用于修正所述连接部的所述第一转印图案及所述第二转印图案的所述转印特性的特性差；

转印工序，基于所述修正动作量使所述特性调整机构动作，在所述感光基板上依次形成所述第一转印图案及所述第二转印图案。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，包括图案宽度设定工序，其中该图案宽度设定工序将利用与所述连接部信息对应的所述投影光学模块投影的图案像的至少一部分遮蔽，而设定所述第一转印图案及所述第二转印图案的至少一方的图案宽度。

3.根据权利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于，

所述导出工序为，作为所述修正动作量，导出使所述第一转印图案的所述转印特性变化的第一修正动作量、和使所述第二转印图案的所述转印特性变化的第二修正动作量的至少一方，

所述转印工序为，根据所述第一修正动作量和所述第二修正动作量的至少一方使所述特性调整机构动作，使与所述第一转印图案和所述第二转印图案的至少一方对应的所述转印特性变化。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的曝光方法，其特征在于，所述导出工序为，导出使表示所述特性差的差值处于规定特性差范围内的所述修正动作量。

5.根据权利要求4所述的曝光方法，其特征在于，所述导出工序为，导出使表示所述转印特性的特性值处于规定特性值范围内的所述修正动作量。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的曝光方法，其特征在于，

所述特性调整机构针对每个所述投影光学模块使所述转印特性变化，

所述导出工序为，将每个所述投影光学模块的所述特性调整机构的动作量作为所述修正动作量导出。

7.根据权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，

所述导出工序为，导出使多个所述投影光学模块中比第一投影光学模块更靠近所述连接部的第二投影光学模块的所述转印特性与所述第一投影光学模块的所述转印特性相比以同等以上的程度变化的所述修正动作量。

8.根据权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述导出工序为，导出使2个以上的所述投影光学模块的所述转印特性大致均等地变化的所述修正动作量。

9.根据权利要求6至8中任意一项所述的曝光方法，其特征在于，所述导出工序为，导出使表示相邻的所述投影光学模块间的所述转印特性的模块间特性差的差值处于规定特性差范围内的所述修正动作量。

10.根据权利要求1至9中任意一项所述的曝光方法，其特征在于，

所述转印特性包括：表示穿过所述投影光学模块形成所述转印图案的曝光光的曝光量的曝光量特性、和表示所述投影光学模块的像面与所述感光基板的对焦位置的对焦特性的至少一方。

11.根据权利要求1至10中任意一项所述的曝光方法，其特征在于，

所述转印工序为，一边使所述感光基板朝规定方向移动，一边在所述感光基板上形成所述第一转印图案和所述第二转印图案。

12.一种曝光装置，其特征在于，具备：

并排设置的多个投影光学模块；

特性调整机构，其使使用所述多个投影光学模块在感光基板上形成的转印图案的转印特性变化；

存储机构，其存储有所述转印图案的转印特性信息；

连接信息取得机构，其取得表示与多个所述转印图案中的在所述感光基板上被接上的第一转印图案及第二转印图案的连接部对应的所述投影光学模块的连接部信息；

控制机构，其进行如下的控制，即，以所述转印特性信息及所述连接部信息为基础导出修正动作量，基于该修正动作量使所述特性调整机构动作，在所述感光基板上依次形成所述第一转印图案及所述第二转印图案，其中所述修正动作量是所述特性调整机构的动作量，并修正所述连接部的所述第一转印图案及所述第二转印图案的所述转印特性的特性差。