[发明专利]曝光方法及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及向感光基板上转印图案的曝光方法及曝光装置。

背景技术

以往，已知有使用并排设置的多个投影光学模块向感光基板上转印图案的多透镜式的曝光装置(例如日本特开2003-151880号公报)。在该公报中记载的曝光装置中，一边同步扫描掩模和感光基板，一边将设于掩模中的图案的像使用多个投影光学模块向感光基板上投影，从而在感光基板上形成作为与该投影的图案的像对应的潜像的转印图案。此后，通过在感光基板上将多个转印图案沿与感光基板的扫描方向正交的方向(以下称作非扫描方向。)依次接上，就可以得到一列大的转印图案。

此时，在该曝光装置中能够适当地变更所接上的各转印图案的非扫描方向的图案宽度的设定，还可以与该图案宽度的变更一起，适当地变更与相邻的转印图案的连接部对应的投影光学模块。这里，所谓在感光基板上使转印图案接上，是指在感光基板上相互邻接或重合地形成相邻的转印图案的交界部(端部)。

但是，在上述的曝光装置中，由于所接上的各转印图案的连接部(交界部)是使用不同的投影光学模块形成的，因此有可能在连接部的各转印图案的图案线宽中产生大的线宽差，从而有可能在一列地形成的转印图案内产生由该线宽差引起的图案的不均(转印不均)。例如，在将该曝光装置用于液晶显示器件的制造时，该转印不均就会作为在液晶显示器件上产生亮度的不均的原因而成为问题。

发明内容

本发明的目的在于，提供能够抑制在感光基板上被接上的各转印图案的连接部中产生的线宽差的曝光方法及曝光装置。

本发明的曝光方法的特征在于，包括：特性信息取得工序，取得使用并排设置的多个投影光学模块在感光基板上形成的转印图案的转印特性信息；连接信息取得工序，取得表示与多个上述转印图案中的在上述感光基板上被接上的第一转印图案及第二转印图案的连接部对应的上述投影光学模块的连接部信息；导出工序，以上述转印特性信息及上述连接部信息为基础导出修正动作量，其中该修正动作量是使上述转印图案的转印特性变化的特性调整机构的动作量，并用于修正上述连接部的上述第一转印图案及上述第二转印图案的上述转印特性的特性差；转印工序，基于上述修正动作量使上述特性调整机构动作，在上述感光基板上依次形成上述第一转印图案及上述第二转印图案。

另外，本发明的曝光装置的特征在于，具备：并排设置的多个投影光学模块；特性调整机构，其使使用上述多个投影光学模块在感光基板上形成的转印图案的转印特性变化；存储机构，其存储有上述转印图案的转印特性信息；连接信息取得机构，其取得表示与多个上述转印图案中的在上述感光基板上被接上的第一转印图案及第二转印图案的连接部对应的上述投影光学模块的连接部信息；控制机构，其进行如下的控制，即，以上述转印特性信息及上述连接部信息为基础导出修正动作量，基于该修正动作量使上述特性调整机构动作，在上述感光基板上依次形成上述第一转印图案及上述第二转印图案，其中所述修正动作量是所述特性调整机构的动作量，并修正所述连接部的所述第一转印图案及所述第二转印图案的所述转印特性的特性差。

根据本发明的曝光方法及曝光装置，可以抑制在感光基板上接上的各转印图案的连接部中产生的线宽差。

附图说明

图1是表示本发明的曝光装置的构成的立体图。

图2是表示本发明的曝光装置的构成的图。

图3是表示本发明的曝光装置的视场光阑和遮帘的图。

图4是表示本发明的曝光装置的投影区域的图。

图5是说明本发明的曝光装置所形成的转印图案的图。

图6是表示第一实施方式的曝光方法的曝光过程的流程图。

图7是表示利用第一实施方式的曝光方法取得的曝光量特性信息的图。

图8是表示第二实施方式的曝光方法的曝光过程的流程图。

图9是表示利用第二实施方式的曝光方法取得的曝光量特性信息的图。

图10是表示利用第三实施方式的曝光方法取得的曝光量特性信息的图。

图11是表示第四实施方式的曝光方法的曝光过程的流程图。

图12是表示利用第四实施方式的曝光方法取得的对焦信息的图。

图13是表示第五实施方式的曝光方法的曝光过程的流程图。

图14是表示利用第五实施方式的曝光方法取得的对焦信息的图。

图15是表示利用第六实施方式的曝光方法取得的对焦信息的图。

图16是表示第七实施方式的曝光方法的曝光过程的流程图。

图17是说明利用第七实施方式的曝光方法取得的转印特性的图。