[发明专利]真空吸附嘴无效
| 申请号： | 200980102440.5 | 申请日： | 2009-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN101911860A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 浜岛浩 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | H05K13/04 | 分类号： | H05K13/04;B25J15/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 吸附 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空吸附嘴，具备真空吸附吸附物的吸附面和与所述吸附面连通的吸引孔，其特征在于，
含有所述吸附面的前端部由陶瓷构成，
所述陶瓷包含：构成该陶瓷的主成分、具有比该主成分的平均晶粒直径大的平均晶粒直径的第二成分，
在所述吸附面上所述第二成分的晶粒比所述主成分的晶粒突出。
2.根据权利要求1所述的真空吸附嘴，其特征在于，所述主成分为氧化锆。
3.根据权利要求1或2所述的真空吸附嘴，其特征在于，所述第二成分为氧化铝。
4.根据权利要求1或2所述的真空吸附嘴，其特征在于，所述第二成分为氧化锌、氧化铁、碳化钛、氮化钛中的任一种。
5.根据权利要求4所述的真空吸附嘴，其特征在于，遍及真空吸附嘴的全长的电阻值为103Ω～1011Ω。
6.根据权利要求1所述的真空吸附嘴，其特征在于，所述吸附面的所述吸引孔附近突出，所述吸附面从外周直到侧面是弯曲的。
7.根据权利要求1所述的真空吸附嘴，其特征在于，在该真空吸附嘴的前端部的外周具有到达至所述吸附面的多个槽。
8.根据权利要求7所述的真空吸附嘴，其特征在于，所述多个槽为同一形状，且在所述的真空吸附嘴的前端部的外周按等间隔地形成。
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