[发明专利]电源装置及照明器具有效
申请号: | 200980107918.3 | 申请日: | 2009-03-24 |
公开(公告)号: | CN101960922A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | 大武宽和;西家充彦;平松拓朗;清水惠一 | 申请(专利权)人: | 东芝照明技术株式会社;株式会社东芝 |
主分类号: | H05B37/02 | 分类号: | H05B37/02;H02M3/28 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张鑫 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电源 装置 照明 器具 | ||
1.一种电源装置,包括:
半导体发光元件;
电流控制电路,该电流控制电路控制提供给所述半导体发光元件的电流;
电压控制电路,该电压控制电路控制施加到所述半导体发光元件的电压;以及,
调光控制部,向该调光控制部输入具有一定调光深度的调光信号,该调光控制部根据该调光深度设定为电流控制模式和/或电压控制模式,在设定为所述电流控制模式的情况下,控制所述电流控制电路以取决于所述调光深度而决定的目标电流来驱动所述半导体发光元件,在设定为所述电压控制模式的情况下,控制所述电压控制电路以取决于所述调光深度而决定的目标电压来驱动所述半导体发光元件。
2.如权利要求1所述的电源装置,其特征在于,
所述控制单元包括:基准信号生成部,该基准信号生成部生成根据所述调光深度决定的、分别取决于目标电流及目标电压的第一及第二基准信号;以及比较部,该比较部比较提供给所述半导体发光元件的所述电流和所述第一基准信号,比较施加到所述半导体发光元件的所述电压和所述第一基准信号,来设定为所述电流控制模式和/或所述电压控制模式。
3.如权利要求1或2所述的电源装置,其特征在于,
所述调光控制部根据所述调光深度设定为所述电流控制模式及电压控制模式间的功率控制模式,在该功率控制模式下,控制所述电流控制电路以取决于所述调光深度而决定的目标电流来驱动所述半导体发光元件,另外,控制所述电压控制电路,以取决于所述调光深度而决定的目标电压来驱动所述半导体发光元件。
4.一种电源装置,包括:
半导体发光元件;
电压检测电路,该电压检测电路检测出施加到所述半导体发光元件的电压并输出第一检测信号;
电流检测电路,该电流检测电路检测出提供给所述半导体发光元件的电流并输出第二检测信号;以及,
调光控制部,向该调光控制部输入设定为最深的第一调光深度、最浅的第二调光深度、及介于第一与第二调光深度间的第三调光深度中的任一个调光深度的调光信号,该调光控制部在所述第一调光深度的设定中,以根据所述第一检测信号使所述电压成为第一目标值的方式驱动控制所述半导体发光元件,在所述第二调光深度的设定中,以根据所述第二检测信号使所述电流成为第二目标值的方式驱动控制所述半导体发光元件,在所述第三调光深度的设定中,以根据所述第一及第二检测信号使所述电压及所述电流分别成为第三及第四目标值的方式驱动控制所述半导体发光元件,所述第三调光深度越接近所述第一调光深度,相比所述第二检测信号就更取决于所述第一检测信号来驱动控制所述半导体发光元件,所述第三调光深度越接近所述第二调光深度,相比所述第一检测信号就更取决于所述第二检测信号来驱动控制所述半导体发光元件。
5.如权利要求4所述的电源装置,其特征在于,
所述调光控制部包括:乘法部,该乘法部将随着所述第三调光深度的大小而增大的系数与所述第一检测信号相乘,并输出相乘的乘法信号;加法部,该加法部将所述第二检测信号与所述乘法输出相加,并输出相加的加法信号;以及,驱动控制部,该驱动控制部根据所述加法信号来驱动控制所述半导体发光元件。
6.一种照明器具,包括:
权利要求1至5中的任一项所述的电源装置;以及,
具有所述电源装置的器具主体。
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