[发明专利]评估衬底的模型的方法、检查设备和光刻设备

权利要求书

1.一种评估衬底的特征的模型的方法，所述方法包括步骤：

使用具有已知辐射特性的辐射对所述衬底进行第一散射测量，所述辐射具有第一特性值；

使用所述第一散射测量来确定所述衬底的所述特征的特性的值或第一残差；

使用具有第二特性值的所述辐射进行第二散射测量；

使用所述第二散射测量来确定所述特征的所述特性的第二值或第二残差；和

比较所述特征的所述特性的所述第一值和所述第二值，或比较所述第一残差和所述第二残差，以确定所述模型的准确性。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括将所述辐射特性改变成第三值。

3.根据权利要求1或2所述的方法，还包括步骤：

使用具有第三特性值的辐射来进行第三散射测量；和

使用所述第三散射测量来确定所述特征的所述特性的第三值；

其中所述比较步骤比较所述特征的所述特性的所述第一值、所述第二值和所述第三值。

4.根据权利要求3所述的方法，还包括将所述辐射特性改变成第四值。

5.根据前述的权利要求中的任一项所述的方法，其中所述被改变的辐射特性是辐射的波长。

6.根据前述的权利要求中的任一项所述的方法，其中所述被改变的辐射特性是辐射的偏振。

7.根据前述的权利要求中的任一项所述的方法，其中所述被改变的辐射特性是所述衬底上的入射角。

8.根据前述的权利要求中的任一项所述的方法，其中所述被改变的辐射特性是所述辐射的照射模式。

9.根据前述的权利要求中的任一项所述的方法，其中所述比较步骤包括：确定所述特征的所述特性的所述第二值是否在所述第一值的预定范围内。

10.根据权利要求7所述的方法，其中所述预定范围是所述第一值的一比例。

11.一种检查设备，所述检查设备被配置成测量衬底上的目标，所述设备包括：

辐射投影器，所述辐射投影器被配置成将辐射投影到所述衬底上，所述辐射具有辐射特性，所述辐射特性具有多个值；

高数值孔径透镜；和

探测器，所述探测器被配置成探测从所述衬底的表面反射的辐射，

其中，所述探测器被配置成将被探测的所述辐射分成多个子部分，每一子部分的辐射具有针对所述辐射特性的不同的值。

12.根据权利要求11所述的检查设备，其中在所述子部分之间不同的所述特性是波长。

13.根据权利要求11所述的检查设备，还包括成像分光计，所述成像分光计被配置成将所述被探测的辐射分成多个子部分，每一子部分的辐射具有针对所述辐射特性的不同的值。

14.一种检查设备，所述检查设备被配置成测量衬底上的目标，所述设备包括：

辐射投影器，所述辐射投影器被配置成将辐射投影到所述衬底上；

高数值孔径透镜；

探测器，所述探测器被配置成探测从所述衬底的表面反射的所述辐射；和

成像傅里叶变换分光计。

15.根据权利要求14所述的检查设备，其中所述成像傅里叶变换分光计布置在所述探测器中。

16.一种光刻设备，所述光刻设备包括：

照射系统，所述照射系统被布置以照射图案；

投影系统，所述投影系统被布置以将所述图案的图像投影到衬底上；和

检查设备，所述检查设备被配置成测量所述衬底上的目标，所述检查设备包括：

辐射投影器，所述辐射投影器被配置成将辐射投影到所述衬底上，所述辐射具有辐射特性，所述辐射特性具有多个值；

高数值孔径透镜；和

探测器，所述探测器被配置成探测从所述衬底的表面反射的辐射；

其中，所述探测器被配置成将所述被探测的辐射分成多个子部分，每一子部分的辐射具有针对所述辐射特性的不同的值。

17.根据权利要求16所述的检查设备，其中在所述子部分之间不同的所述辐射特性是波长。

18.根据权利要求16或17所述的检查设备，还包括成像分光计，所述成像分光计被配置成将所述被探测的辐射分成多个子部分，每一子部分的辐射具有针对所述辐射特性的不同的值。