[发明专利]制造图案化双折射产品的方法

权利要求书

1.一种制造图案化双折射产品的方法，依序包括至少步骤(I)～(III)：

(I)提供具有含有聚合物的光学各向异性层的双折射图案构造体；

(II)对所述双折射图案构造体的两个以上区域在彼此不同的曝光条件下进行曝光；和

(III)在50℃以上和400℃以下的温度下加热所述步骤(II)后得到的叠置结构。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述曝光条件在选自曝光强度、曝光量、曝光时间和曝光峰值波长的至少一个曝光参数方面不同。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中使用具有彼此不同图案的曝光掩模进行所述两个以上区域的曝光。

4.如权利要求1所述的方法，其中使用具有表现出彼此不同的透射光谱的两个以上区域的曝光掩模通过一次曝光进行所述步骤(II)。

5.如权利要求1～4中任一项所述的方法，其中所述光学各向异性层在20℃下的面内延迟为10nm以上。

6.如权利要求1～5中任一项所述的方法，其中所述聚合物具有未反应的反应性基团。

7.如权利要求1～6中任一项所述的方法，其中所述光学各向异性层是通过以下步骤形成的层：用含有具有至少一个反应性基团的液晶性化合物的溶液涂布，干燥涂布上的溶液形成液晶相，然后加热或用电离辐射照射所述液晶相，从而导致聚合和固定。

8.如权利要求7所述的方法，其中所述液晶性化合物具有聚合条件不同的两种以上的反应性基团。

9.如权利要求8所述的方法，其中所述液晶性化合物至少具有自由基反应性基团和阳离子反应性基团。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述自由基反应性基团是丙烯酸系基团和/或甲基丙烯酸系基团，所述阳离子反应性基团是乙烯基醚基团、氧杂环丁烷基团和/或环氧基团。

11.如权利要求1～6中任一项所述的方法，其中所述光学各向异性层是拉伸膜。

12.如权利要求1～11中任一项所述的方法，其中通过将具有所述光学各向异性层的转移材料转移到目标转移材料上进行所述步骤(I)。

13.一种通过权利要求1～12中任一项所述方法得到的产品，其在200℃下焙烧30分钟后的延迟(相差)变化为10％以下。

14.一种通过权利要求1～12中任一项所述方法得到的用作防止伪造手段的产品。

15.一种通过权利要求1～12中任一项所述方法得到的用作光学元件的产品。