[发明专利]制造图案化双折射产品的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种制造图案化双折射产品的方法和通过所述方法制造的图案化双折射产品。

背景技术

已经提出了几种制作双折射图案的方法。JP-A-3-141320(″JP-A″指未审查公开的日本专利申请)公开了一种在图像记录方法中夹在两块偏振片之间时可以看到的图案化双折射产品。在JP-A-3-141320中，使用的技术是利用加热方式激光或热头以加热各向异性膜的图像形成部，从而完全或部分地降低各向异性。

然而，通过其中上述利用热降低双折射性的技术制作的图案均具有耐热性差的缺点。也就是说，存在当加热到残留双折射性的部分时，该部分的双折射性将结束下降的风险。此外，在使用热头等的技术中，因为在厚度方向的传热性和面内方向的传热性之间难于产生差异，所以极难在低于膜厚的分辨率下产生图案。用激光加热允许产生高分辨率图案，但其问题在于利用激光扫描绘制微细图案很费时。

JP-A-3-141320也提出了使用光分解性光聚合物或光异构化聚合物用光来降低双折射性的技术。然而，通过该技术制作的图案的耐光性很低，特别地，使得图案不适于作为光学元件中使用的双折射图案。

已经提出了制作双折射图案的另一种技术，其是一种方法，包括在具有取向膜的支持体上涂布含有聚合性液晶和聚合引发剂的涂布液，通过光掩模对其中液晶处于取向态的涂布液进行图案化曝光，通过聚合固定曝光区域的取向，加热在未曝光的区域中产生各向同性相，以及进行第二次曝光，从而使第一次曝光的区域周围表现出光学各向异性(参见，英国专利No.2,394,718A，和“Advanced Function Materials”，pp.791-798，16，2006)。然而，在该方法中，在固定之前控制液晶取向态要求在小心控制整个体系温度的同时进行多次曝光，从而造成了制造过程苛刻的问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于容易制备高分辨率和高耐热性的图案化双折射产品的方法，即，具有图案化双折射且分辨率和耐热性高的物品。

根据本发明，提供以下手段：

(1)一种制造图案化双折射产品的方法，依序包括至少步骤(I)～(III)：

(I)提供具有含有聚合物的光学各向异性层的双折射图案构造体；

(II)对所述双折射图案构造体的两个以上区域在彼此不同的曝光条件下进行曝光；和

(III)在50℃以上和400℃以下的温度下加热所述步骤(II)后得到的叠置结构。

(2)如上项(1)所述的方法，其中所述曝光条件在选自曝光强度、曝光量、曝光时间和曝光峰值波长的至少一个曝光参数方面不同。

(3)如上项(1)或(2)所述的方法，其中使用具有彼此不同图案的曝光掩模进行所述两个以上区域的曝光。

(4)如上项(1)所述的方法，其中使用具有表现出彼此不同的透射光谱的两个以上区域的曝光掩模通过一次曝光进行所述步骤(II)。

(5)如上项(1)～(4)中任一项所述的方法，其中所述光学各向异性层在20℃下的面内延迟为10nm以上。

(6)如上项(1)～(5)中任一项所述的方法，其中所述聚合物具有未反应的反应性基团。

(7)如上项(1)～(6)中任一项所述的方法，其中所述光学各向异性层是通过以下步骤形成的层：用含有具有至少一个反应性基团的液晶性化合物的溶液涂布，干燥涂布上的溶液形成液晶相，然后加热或用电离辐射照射所述液晶相，从而导致聚合和固定。

(8)如上项(7)所述的方法，其中所述液晶性化合物具有聚合条件不同的两种以上的反应性基团。

(9)如上项(8)所述的方法，其中所述液晶性化合物至少具有自由基反应性基团和阳离子反应性基团。

(10)如上项(9)所述的方法，其中所述自由基反应性基团是丙烯酸系基团和/或甲基丙烯酸系基团，所述阳离子反应性基团是乙烯基醚基团、氧杂环丁烷基团和/或环氧基团。

(11)如上项(1)～(6)中任一项所述的方法，其中所述光学各向异性层是拉伸膜。

(12)如上项(1)～(11)中任一项所述的方法，其中通过将具有所述光学各向异性层的转移材料(该材料下面简称作″转移材料″)转移到目标转移材料(其是在其上将要转移所述转移材料的目标材料)上进行所述步骤(I)。

(13)一种通过上项(1)～(12)中任一项所述方法得到的产品，其中200℃下焙烧30分钟后的延迟(相差)变化为10％以下。

(14)一种通过上项(1)～(12)中任一项所述方法得到的用作防止伪造手段的产品。