[发明专利]全二维气相色谱

权利要求书

1.一种方法，用于调节具有初级柱子和次级柱子并且包含新初级柱子和/或新次级柱子的新全二维气相色谱系统的操作参数以与包含现有初级柱子和现有次级柱子的已知全二维气相色谱系统相匹配，使得化合物在所述新二维气相色谱系统中的测定第一保留时间和第二保留时间与该化合物在所述已知二维气相色谱系统中的现有第一保留时间和现有第二保留时间相匹配，其中，所述新次级柱子的长度比所述现有次级柱子的长度要长，优选长5至20％，其中，

a.为了调节所述新初级柱子的操作参数，通过如下使所述化合物的测定第一保留时间与所述化合物的现有第一保留时间相匹配：

i.多次注射具有目标化合物的标样，每次在所述新初级柱子的多个柱压头之一下，以生成所述目标化合物的多个第一保留时间，每个在不同的柱压头下；并且

ii.建立校正曲线，用于确定为实现第一保留时间变化所必需的柱压头变化，所述第一保留时间变化足以使所述目标化合物在所述新初级柱子中的所述第一保留时间与所述目标化合物的所述现有第一保留时间相匹配；然后

iii.将所述新全二维气相色谱系统中的所述柱压头设定成为匹配所述目标化合物的原始第一保留时间所必需的压头，并且其中，

b.为了调节所述新次级柱子的操作参数，通过如下使所述化合物的测定第二保留时间与所述化合物的现有第二保留时间相匹配：

i.多次注射具有目标化合物的标样，每次在多个有效次级柱长之一下，以生成所述目标化合物的多个第二保留时间，每个在不同的第二保留时间下；并且

ii.建立校正曲线，用于确定为实现第二保留时间变化所必需的有效第二柱长的变化，所述第二保留时间变化足以使所述目标化合物的测定第二保留时间与所述目标化合物的现有第二保留时间相匹配；然后

iii.将所述新全二维气相色谱系统中的所述有效次级柱长设定成为匹配所述目标化合物的现有第二保留时间所必需的有效次级柱长。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述次级柱长通过调节所述调制器的位置设定。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述调制器的位置通过相对所述次级柱滑动来调节。

4.如权利要求1至3中任意一项所述的方法，其中，所述调制器是低温调制器。

5.如权利要求1至4中任意一项所述的方法，其中，所述有效次级柱长以自动方式调节，优选通过软件控制的机构调节。