[发明专利]无定形二氧化硅质粉末、其制造方法以及用途有效
申请号: | 200980115553.9 | 申请日: | 2009-05-13 |
公开(公告)号: | CN102015531A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 西泰久;佐佐木修治;村田弘 | 申请(专利权)人: | 电气化学工业株式会社 |
主分类号: | C01B33/18 | 分类号: | C01B33/18;B01J2/16;C08K9/04;C08L63/00;C08L101/00;H01L23/29;H01L23/31 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 无定形 二氧化硅 粉末 制造 方法 以及 用途 | ||
1.一种无定形二氧化硅质粉末,其特征在于,使无定形二氧化硅质粉末吸附吡啶后,在大于或等于450℃但小于550℃的温度下进行加热时的吡啶的脱附量L与在大于或等于150℃但小于250℃的温度下进行加热时的吡啶的脱附量B之比L/B为0.8以下。
2.根据权利要求1所述的无定形二氧化硅质粉末,其中,使无定形二氧化硅质粉末吸附吡啶后,在大于或等于150℃但小于550℃的温度下进行加热时的吡啶的总脱附量A中,在大于或等于150℃但小于250℃的温度下进行加热时的吡啶的脱附量B所占的比例(B/A)×100%为20%以上。
3.根据权利要求1或2所述的无定形二氧化硅质粉末,其中,比表面积为0.5~45m2/g,平均粒径为0.1~60μm,平均球形度为0.80以上。
4.一种无机质粉末,其含有权利要求1~3中任一项所述的无定形二氧化硅质粉末。
5.根据权利要求4所述的无机质粉末,其中,无机质粉末为本发明以外的无定形二氧化硅质粉末和/或氧化铝质粉末。
6.一种无定形二氧化硅质粉末的制造方法,其特征在于,其是权利要求1~3中任一项所述的无定形二氧化硅质粉末的制造方法,
将含有原料二氧化硅质粉末和Al源物质的混合物喷射到由燃烧器形成的火焰中,制造无定形二氧化硅质粉末后,在温度60~150℃、相对湿度60~90%的环境下保持15~30分钟。
7.一种树脂组合物,其含有权利要求1~5中任一项所述的无定形二氧化硅质粉末或无机质粉末。
8.根据权利要求7所述的树脂组合物,其中,树脂组合物的树脂为环氧树脂。
9.一种半导体封装材料,其使用权利要求7或8所述的树脂组合物。
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