[发明专利]光学相干断层成像装置和光学相干断层成像方法有效

专利信息
申请号: 200980115967.1 申请日: 2009-05-07
公开(公告)号: CN102016549A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 广濑太;山田和朗;宫田和英;武藤健二;户松宣博 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G01N21/47 分类号: G01N21/47;A61B3/12;A61B5/00;G01B9/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 屠长存
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 相干 断层 成像 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种光学相干断层成像装置,在所述光学相干断层成像装置中,来自光源的光被分成测量光束和参照光束,所述测量光束被引向检查对象,所述参照光束被引向参照反射镜,并且,由所述检查对象反射或散射的测量光束的返回光束和由所述参照反射镜反射的参照光束被用来使所述检查对象的断层图像成像,所述装置包括:

光束直径调整单元,其用于调整所述测量光束的光束直径;

返回光束分割单元,其用于将所述返回光束分成第一返回光束和第二返回光束;

第一检测单元,其用于检测来自所述分割单元的所述第一返回光束的强度;

会聚位置调整单元,其用于在由所述光束直径调整单元调整的光束直径的情况下基于由所述第一检测单元检测的第一返回光束的强度来调整所述测量光束在所述检查对象上的会聚位置;

第二检测单元,其用于检测通过将来自所述分割单元的所述第二返回光束与由所述参照反射镜反射的参照光束的反射光束合成而获得的合成光束的强度;和

光路长度调整单元,其用于在由所述会聚位置调整单元调整的所述测量光束的状态下基于由所述第二检测单元检测的所述合成光束的强度来调整所述参照光束的光路长度。

2.根据权利要求1所述的光学相干断层成像装置,还包括用于记录通过所述光路长度调整单元调整的所述参照光束的光路长度的位置的单元。

3.根据权利要求1所述的光学相干断层成像装置,还包括用于报告所述第一返回光束或所述第二返回光束没有达到被所述第一指示单元或所述第二指示单元检测所需的强度的单元。

4.根据权利要求1所述的光学相干断层成像装置,其中,将所述来自光源的光引向将光分成所述测量光束和所述参照光束的光路的光路、将所述测量光束引向所述检查对象的光路和将所述参照光束引向所述参照反射镜的光路中的至少一个光路由光纤构建。

5.一种光学相干断层信息获取装置,包括:

返回光束检测部分,其用于检测来自检查对象的返回光束的强度信息;

光学部分,其用于用入射到所述检查对象上的测量光束照射所述检查对象的位置;

光束直径改变部分,其用于将入射到光学部分上的所述测量光束的第一光束直径变为比第一光束直径大的第二光束直径;

调整部分,其用于基于第一光束直径中的来自所述检查对象的位置的所述返回光束的强度信息来调整所述测量光束的会聚位置;和

合成光束检测部分,其用于检测来自所述检查对象的返回光束与所述参照光束的合成光束,

其中,第一光束直径在被所述调整部分调整的状态下通过所述光束直径改变部分变为第二光束直径,使得入射具有第二光束直径的测量光束。

6.根据权利要求5所述的光学相干断层信息获取装置,其中,所述调整部分被构建为使得所述测量光束的光路长度和所述参照光束的光路长度之间的差被调整。

7.根据权利要求5所述的光学相干断层信息获取装置,其中,所述调整部分被构建为使得在第二光束直径中将所述测量光束入射在所述检查对象上的状态下调整第一光束直径中的所述测量光束在检查对象上的位置。

8.根据权利要求5所述的光学相干断层信息获取装置,还包括用于改变所述测量光束的光束状态的光束状态改变部分,其中,被改变的光束状态包括第二光束直径的光束状态,

由此,对于通过所述光束状态改变部分改变的每个光束状态,检测所述返回光束的强度信息,并且由所述合成光束检测部分检测通过使用具有基于检测的强度信息而选择的光束状态的测量光束而获得的合成光束。

9.根据权利要求5所述的光学相干断层信息获取装置,其中,光束状态是所述测量光束的形状和与光轴方向垂直的平面中的位置中的至少一种。

10.根据权利要求5所述的光学相干断层信息获取装置,其中,所述光束状态改变部分包括通过所述测量光束的入射而形成测量光束的光束状态的多个透镜,并且所述光束状态改变部分被构建为通过使所述测量光束入射到不同的透镜上来改变光束状态。

11.根据权利要求5所述的光学相干断层信息获取装置,其中,所述光束状态改变部分包括与光轴方向垂直地布置的盘件和设置在所述盘件中的多个开口,并且所述光束状态改变部分被构建为通过旋转所述盘件来使所述测量光束选择性入射到开口中的任一个开口上。

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