[发明专利]光学相干断层成像装置和光学相干断层成像方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学相干断层成像装置和光学相干断层成像方法。特别地，本发明涉及用于眼科诊断和治疗中的光学相干断层成像装置和光学相干断层成像方法。

背景技术

光学相干断层(OCT)可以以高分辨率获取样品的断层图像，并且主要用作眼科仪器。使用OCT的装置(OCT装置)配有相干系统，并且可通过用测量光束(低相干光束)照射眼底并将来自眼底的返回光束与参照光束合成从而以高灵敏度进行测量。此时，测量光束被投射在视网膜的预定位置处以获取眼底的断层图像。

这里，由于诸如弱视之类的被检查眼睛的因素，在一些情况下可能难以将测量光束投射在视网膜的预定位置处。此时，必须通过根据各个被检查眼睛的光学特性调整光学系统来将测量光束投射在视网膜的预定位置处，因此，调整光学系统花费很长的时间。

近年来，更加强烈地需要通过OCT装置来获取具有高分辨率的断层图像。因此，当通过使测量光束的光束直径变大来获取断层图像时，调整这种光学系统花费更长的时间。

另一方面，还希望缩短用于调整光学系统的时间。特别地，缩短视网膜的眼科诊断中成像所需要的时间与减轻被检查者的负担有关，使得强烈希望缩短用于调整这种光学系统的时间。

为了满足以上的两种需求，在日本专利申请公开No.2002-174769(专利文献1)中公开了使用OCT和光学相干显微术(OCM)的光学装置。该装置被构建为使得OCT被用于确认活体样品内的大的结构，并且可在用更细的分辨率观察其中显著的区域时变为OCM。此时，OCT和OCM在焦点深度上是大大不同的，使得装置被构建为可通过使用光束直径转换光学系统来根据具有小数值孔径的OCT和具有大数值孔径的OCM设定光束直径，以便允许以高的S/N比观察。

发明内容

在专利文献1(日本专利申请公开No.2002-174769)中公开的装置可通过变为OCM来用更细分辨率观察由OCT确认的活体样品内的大结构中的显著的区域，由此解决用于将具有较浅焦点深度的OCM中的测量光束投射在预定位置处的调整花费较长时间的问题。

然而，专利文献1(日本专利申请公开No.2002-174769)根本没有考虑由于在通过OCT装置成像而以高分辨率进行断层成像时通过使用光束直径转换光学系统使测量光束的光束直径变大而导致的问题。

在通过OCT的断层成像中，通过使用光束直径转换光学系统来使测量光束的光束直径变大，由此获取具有高分辨率的断层图像。但是，当以这种方式使测量光束的光束直径变大时，焦点深度变浅，使得难以将测量光束投射在预定的位置处，并且调整光学系统花费很长的时间。

鉴于上述的问题，本发明的一个目的是，提供可在通过OCT获取具有高分辨率的断层图像时缩短成像时间的光学相干断层成像装置和光学相干断层成像方法。

本发明提供如下面描述的那样构成的光学相干断层成像装置和光学相干断层成像方法。

根据本发明的光学相干断层成像装置是这样一种光学相干断层成像装置，即，在该光学相干断层成像装置中，来自光源的光被分成测量光束和参照光束，测量光束被引向检查对象，参照光束被引向参照反射镜，并且，由检查对象反射或散射的测量光束的返回光束和由参照反射镜反射的参照光束被用来使检查对象的断层图像成像，该装置包括：

用于调整测量光束的光束直径的光束直径调整单元；

用于将返回光束分成第一返回光束和第二返回光束的返回光束分割单元；

用于检测来自分割单元的第一返回光束的强度的第一检测单元；

会聚位置调整单元，用于在由光束直径调整单元调整的光束直径下基于由第一检测单元检测的第一返回光束的强度来调整测量光束在检查对象上的会聚位置；

第二检测单元，用于检测通过将来自分割单元的第二返回光束与由参照反射镜反射的参照光束的反射光束合成而获得的合成光束的强度；和

光路长度调整单元，用于在由会聚位置调整单元调整的状态下基于由第二检测单元检测的合成光束的强度来调整参照光束的光路长度。

根据本发明的光学相干断层成像方法是光学相干断层成像装置中的光学相干断层成像方法，在光学相干断层成像装置中，来自光源的光被分成测量光束和参照光束，测量光束被引向检查对象，参照光束被引向参照反射镜，并且，由检查对象反射或散射的测量光束的返回光束和由参照反射镜反射的参照光束被用来使检查对象的断层图像成像，该方法包括：