[发明专利]磁记录介质、制造磁记录介质的方法和磁记录/再现装置

说明书

技术领域

本发明涉及用于诸如硬盘驱动器的磁记录/再现装置的磁记录介质和用于制造该磁记录介质的方法。还涉及磁记录/再现装置。

背景技术

近年来，诸如磁盘装置、软盘装置和磁带装置的磁记录/再现装置被广泛地应用，其重要性也日益增加。在磁记录装置中使用的磁记录介质的记录密度也被极大地提高。特别地，因为MR头和PRML技术的发展，面记录密度日益增加。最近，已经开发了GMR头和TMR头，并且面记录密度以约每年100％的速率增加。对于进一步提高记录密度的需求仍然日益增加，因此，热切需要具有更高矫顽力和更高信噪比(SNR)以及高分辨率的磁性层。

同样还进行了通过增加磁道密度和增加线记录密度来增加面记录密度的尝试。

在近期的磁记录/再现装置中，磁道密度已达到约110kTPI。然而，随着磁道密度的增加，磁记录信息倾向于在相邻的磁道之间彼此干扰，并且作为噪声源的在其边界区域中的磁化过渡区倾向于损害SNR。这些问题导致误码率的降低并阻碍了记录密度的增加。

为了增加面记录密度，需要使每一个记录位的尺寸变小并使每一个记录位具有最大饱和磁化和磁性膜厚度。然而，随着位尺寸的减小，每位的最小磁化体积变小，并且所记录的数据往往会因为由热波动造成的磁化反转而消失。

此外，为了减小相邻磁道之间的距离，磁记录装置需要高精度磁道伺服系统技术，并且通常采用这样的操作，其中，进行宽幅记录而进行窄幅再现，以使相邻磁道之间的影响最小化。该操作的优点为可以使相邻磁道的影响最小化，而缺点为再现输出相当低。这还导致难以将SNR提高到希望的高水平。

为了减小热波动、保持希望的SNR并获得希望的再现输出，已经有这样的提议，其中形成沿磁记录介质表面上的磁道延伸的凸起和凹陷，以便通过凹陷来分离位于凸起上的每一个构图的磁道，由此增加磁道密度。下文中，将该类型的磁记录介质称为离散磁道介质，并且将用于提供该类型的磁记录介质的技术称为离散磁道方法。

还提议了制造这样的构图介质，在其中进一步分割在相同磁道中的数据区域。

离散磁道介质的一个实例为在例如专利文献1中公开的磁记录介质，其被这样制造，提供具有在其表面上形成的凸起和凹陷的非磁性基底，并且在非磁性基底上形成具有对应的表面配置的磁性层，以便产生物理离散的磁记录磁道和伺服信号图形(参见，例如，专利文件1)。

上述磁记录介质具有的多层结构使得可以通过具有在其表面上形成的凸起和凹陷的图形的非磁性基底上的软磁性衬层(underlayer)来形成铁磁性层，并在铁磁性层上形成保护性外涂层(overcoat)。磁记录构图区在与周围区域物理分离的凸起上形成磁记录区。

在上述磁记录介质中，可以防止或最小化在软磁性衬层中铁磁畴壁的出现，因此减轻了由热波动造成的影响，并且使相邻信号之间的干扰最小化，从而提供呈现大SNR的具有高记录密度的磁记录介质。

离散磁道方法包括两种方法：第一种为在形成包括几个层叠的膜的多层磁记录介质之后形成磁道的方法；第二种为在基底的表面上形成具有凸起和凹陷的图形且之后形成磁性层的方法(参见，例如，专利文件2和专利文件3)。

已经提出了另一种离散磁道方法，其中，例如，对预先形成的连续的磁性层进行氮离子或氧离子注入或利用激光进行辐射，由此在离散磁道介质中形成使磁道分离的区域，该区域具有改性的磁特性(参见，例如，专利文件4-6)。

专利文件1JP 2004-164692A1

专利文件2JP 2004-178793A1

专利文件3JP 2004-178794A1

专利文件4JP H5-205257A1

专利文件5JP 2006-209952A1

专利文件6JP 2006-309841A1

发明内容

本发明所要解决的问题