[发明专利]磁记录介质的制造方法和制造装置无效

专利信息
申请号: 200980117004.5 申请日: 2009-05-12
公开(公告)号: CN102027539A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 福島正人;坂脇彰;茂智雄 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/851 分类号: G11B5/851
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 段承恩;陈海红
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 记录 介质 制造 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种磁记录介质的制造方法,是将装载于运载器的多片非磁性基板依次运送到相互接续的多个室内,制造具有磁记录图案的磁记录介质的方法,其特征在于,依次地具有:

装载工序,将至少层叠有记录磁性层和用于将所述记录磁性层图案化的掩模层的非磁性基板装载于运载器;

改性工序,通过对所述记录磁性层之中的没有被所述掩模层覆盖的部位进行反应性等离子处理或离子照射处理而将磁特性改性,形成由残存的磁性体构成的磁记录图案;

除去所述掩模层的除去工序;

在所述记录磁性层上形成保护膜的保护膜形成工序;以及,

从所述运载器卸下所述非磁性基板的卸下工序,

将所述改性工序、所述除去工序或所述保护膜形成工序中的任一个以上的工序分成多个室而连续处理。

2.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述改性工序中的所述磁特性的改性为非磁性化。

3.根据权利要求1或2所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,在所述装载工序与所述改性工序之间,进行将所述掩模层图案化的图案化工序。

4.根据权利要求1~3的任一项所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,在所述非磁性基板的两面形成所述记录磁性层,并且,在所述改性工序中,对所述非磁性基板的两面同时地进行所述反应性等离子处理或所述离子照射处理。

5.根据权利要求1~4的任一项所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,采用选自离子枪、ICP、RIE中的任一种方法进行所述反应性等离子处理或所述离子照射处理。

6.一种磁记录介质的制造装置,是将装载于所述运载器的多片的非磁性基板依次运送到相互接续的多个室内,制造具有磁记录图案的磁记录介质的装置,其特征在于,具有:

将至少层叠有记录磁性层和用于将所述记录磁性层图案化的掩模层的非磁性基板装载于运载器的装载机构;

改性室,该改性室具有通过对所述记录磁性层之中的没有被所述掩模层覆盖的部位进行反应性等离子处理或离子照射处理而将磁特性改性,形成由残存的磁性体构成的磁记录图案的机构;

除去所述掩模层的除去室;

具有在所述记录磁性层上形成保护膜的机构的保护膜形成室;以及,

从所述运载器卸下成膜后的非磁性基板的卸下机构,

所述改性室、所述除去室或所述保护膜形成室中的任一种以上的室具有多个。

7.根据权利要求6所述的磁记录介质的制造装置,其特征在于,在所述装载机构与所述改性室之间具有将所述掩模层图案化的图案化室。

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