[发明专利]制备酰胺的方法无效
申请号: | 200980117295.8 | 申请日: | 2009-05-11 |
公开(公告)号: | CN102026948A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | M·C·鲍登;D·A·杰克逊;A·C·圣-迪辛;D·德劳 | 申请(专利权)人: | 辛根塔有限公司;先正达参股股份有限公司 |
主分类号: | C07C31/02 | 分类号: | C07C31/02;C07C33/22 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张敏 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 方法 | ||
本发明涉及一种制备一些杀真菌活性的苯基炔丙基醚衍生物的方法以及涉及制备其中一些中间体的方法。
可根据本发明制备的所述杀真菌活性的苯基炔丙基醚衍生物描述于,例如WO01/87822中。这些杀真菌活性的苯基炔丙基醚衍生物对应于式(I)
包括其光学异构体以及这些异构体的混合物,其中
R1是氢、烷基、环烷基或者任选取代的芳基;R2和R3各自独立地是氢或者烷基;R4是烷基、烯基或者炔基;R5、R6、R7和R8各自独立地是氢或者烷基;R9是氢、任选取代的烷基、任选取代的烯基或者任选取代的炔基;R10是任选取代的芳基或者任选取代的杂芳基;以及
Z是卤素、任选取代的芳氧基、任选取代的烷氧基、任选取代的烯氧基、任选取代的炔氧基、任选取代的芳硫基、任选取代的烷硫基、任选取代的烯硫基、任选取代的炔硫基、任选取代的烷基亚磺酰基、任选取代的烯基亚磺酰基、任选取代的炔基亚磺酰基、任选取代的烷基磺酰基、任选取代的烯基磺酰基或者任选取代的炔基磺酰基。
许多制备上述式(I)化合物的方法已经描述于WO 01/87822中。WO2007/020381描述了制备这些化合物的可选方法。
现在已经令人惊讶地发现式(I)化合物可以有利地通过在存在硼酸催化剂或者没有催化剂的情况下偶联相应的胺和羧酸来制备。
在第一个实施方案中,本发明涉及一种制备式(II)化合物的方法
R5、R6、R7和R8各自独立地是氢或者烷基;
R9是氢、任选取代的烷基、任选取代的烯基或者任选取代的炔基;
R10是任选取代的芳基或者任选取代的杂芳基;
X是H、保护基或者式(III)的基团
其中
R1是氢、烷基、环烷基或者任选取代的芳基;
R2和R3各自独立地是氢或者烷基;
Y是R4、H或者保护基,
R4是烷基、烯基或者炔基;
Z是卤素、任选取代的芳氧基、任选取代的烷氧基、任选取代的烯氧基、任选取代的炔氧基、任选取代的芳硫基、任选取代的烷硫基、任选取代的烯硫基、任选取代的炔硫基、任选取代的烷基亚磺酰基、任选取代的烯基亚磺酰基、任选取代的炔基亚磺酰基、任选取代的烷基磺酰基、任选取代的烯基磺酰基或者任选取代的炔基磺酰基,
包括在存在硼酸(boronic acid)催化剂的情况下将式(IV)的羧酸与式(V)的胺反应
虽然将硼酸催化剂用于通过偶联胺与羧酸来合成酰胺通常是已知的,例如,在Arnold等,Adv.Synth.Catal.2006,348,813-820中,但是使用硼酸催化剂对本发明的化合物所获得的速率和产率是不可预期且令人惊讶的。
优选地,R10是任选取代的芳基。更优选地,R10是式(VI)的基团
其中,R是卤素、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基-烷基、苯基或者苯基烷基,任何前述基团(除了卤素)可以被一个或者多个相同或者不同的选自以下的基团取代:烷氧基;烯氧基;炔氧基;烷氧基烷基;卤代烷氧基;烷硫基;卤代烷硫基;烷基磺酰基;甲酰基;烷酰基;羟基;卤素;氰基;硝基;氨基;烷基氨基;二烷基氨基;羧基;烷氧基羰基;烯氧基羰基;以及炔氧基羰基;以及n是从0到3的整数,优选0或者1。优选地,R10是卤素-取代的苯基。
例如,R是卤素、C1-C4-烷基、C2-C4-烯基、C2-C4-炔基、C3-C6-环烷基、C3-C6-环烷基-C1-C4-烷基、苯基或者苯基-C1-C4-烷基,任何前述基团(除了卤素)可以被一个或者多个相同或者不同的选自以下的基团取代:C1-C4-烷氧基;C2-C4-烯氧基;C2-C4-炔氧基;C1-C4-烷氧基-C1-C4-烷基;卤代-C1-C4-烷氧基;C1-C4-烷硫基;卤代-C1-C4-烷硫基;C1-C4-烷基磺酰基;甲酰基;C1-C4-烷酰基;羟基;卤素;氰基;硝基;氨基;C1-C4-烷基氨基;二-C1-C4-烷基氨基;C2-C4-羧基;C1-C4-烷氧基-C2-C4-羰基;C2-C4-烯氧基-C2-C4-羰基;以及C2-C4-炔氧基-C2-C4-羰基;以及n是从0到3的整数,优选0或者1。优选地,R10是卤素-取代的苯基。
优选地,
R5、R6、R7和R8是H;
R9是H;
R10是式(VI)的基团
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于辛根塔有限公司;先正达参股股份有限公司,未经辛根塔有限公司;先正达参股股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980117295.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。