[发明专利]真空处理系统、真空处理系统上使用的缓冲模块及真空处理系统的托盘传送方法

权利要求书

1.一种真空处理系统，其特征在于，所述真空处理系统包括：

装载/卸载模块，在托盘上对多个基板进行装载或者卸载；

一个以上的工序模块，所述工序模块设置于所述装载/卸载模块一侧，并且形成有封闭的处理空间，以接收装载有多个基板的托盘并进行工序；

缓冲模块，其具备一个以上用于临时存储托盘的缓冲部，在从所述装载/卸载模块接收托盘，并向所述工序模块传送之前，在所述缓冲部中向托盘的上侧覆盖形成有若干个槽的遮盖部件，在从所述工序模块接收覆盖了遮盖部件的托盘，并向所述装载/卸载模块传送之前，去除托盘上的遮盖部件；及

传送部，在所述装载/卸载模块及所述工序模块之间传送托盘，及在所述工序模块及缓冲模块之间传送托盘。

2.如权利要求1所述的真空处理系统，其特征在于，

所述缓冲模块包括：

模块本体；

托盘支承部，设置于所述模块本体上，用于支承托盘；及

遮盖支承部，与所述托盘支承部一起形成用于临时存储托盘的缓冲部，并且向所述托盘支承部的上侧与其隔开间隔地设在所述模块本体上，以在托盘向上侧移动时被遮盖部件覆盖，在所述托盘向下侧移动时对所述遮盖部件进行支承，以能够从所述托盘去除所述遮盖部件。

3.如权利要求2所述的真空处理系统，其特征在于，

所述缓冲部为两个以上。

4.如权利要求3所述的真空处理系统，其特征在于，

所述缓冲部为上下设置。

5.如权利要求4所述的真空处理系统，其特征在于，

所述缓冲模块构成为能够使所述上下设置的缓冲部上下移动。

6.如权利要求4所述的真空处理系统，其特征在于，

所述传送部构成为能够使托盘向着所述上下设置的缓冲部上下移动。

7.如权利要求2所述的真空处理系统，其特征在于，

所述缓冲部为水平设置。

8.如权利要求7所述的真空处理系统，其特征在于，

所述缓冲模块构成为能够使所述水平设置的缓冲部水平移动。

9.如权利要求7所述的真空处理系统，其特征在于，

所述传送部构成为能够使托盘向着所述水平设置的缓冲部移动。

10.如权利要求2所述的真空处理系统，其特征在于，

所述托盘支承部形成为比遮盖支承部更为突出。

11.如权利要求1至10中任一项所述的真空处理系统，其特征在于，所述缓冲模块及所述一个以上的工序模块沿着设置于所述装载/卸载模块一侧的导轨配置；

所述传送部包括传送机器人，所述传送机器人沿着所述导轨移动，以在所述装载/卸载模块及所述缓冲模块之间传送托盘，以及在所述工序模块及所述缓冲模块之间传送托盘。

12.如权利要求1至10中任一项所述的真空处理系统，其特征在于，所述缓冲模块设置于所述装载/卸载模块的一侧，所述一个以上的工序模块沿着设置在所述缓冲模块的一侧的导轨配置；

所述传送部包括第一传送机器人以及第二传送机器人；所述第一传送机器人在所述装载/卸载模块及所述缓冲模块之间传送托盘；所述第二传送机器人沿着所述导轨移动，以在所述工序模块及所述缓冲模块之间传送托盘。

13.如权利要求1至10中任一项所述的真空处理系统，其特征在于，所述工序模块用于在真空状态下对基板的表面进行蚀刻或蒸汽沉积工序。

14.如权利要求1至10中任一项所述的真空处理系统，其特征在于，所述装载/卸载模块及所述缓冲模块为在大气压状态下执行的模块。

15.一种缓冲模块，其特征在于，使用在权利要求1至10中任一项所述的真空处理系统中。

16.一种真空处理系统的托盘传送方法，其特征在于，所述方法包括：

基板装载步骤，在托盘上装载多个基板；

第一托盘装载步骤，将装载有基板的托盘向用于临时存储该托盘的缓冲部进行传送；

遮盖覆盖步骤，在所述第一托盘传送步骤中存储于缓冲部中的托盘上覆盖形成有若干个槽的遮盖部件；及

第二托盘装载步骤，将遮盖覆盖步骤中覆盖了形成有若干个槽的遮盖部件的托盘从缓冲模块向工序模块传送。