[发明专利]真空处理系统、真空处理系统上使用的缓冲模块及真空处理系统的托盘传送方法

说明书

技术领域

本发明涉及真空处理系统，更详细地，涉及在真空状态下对基板表面进行蚀刻、蒸汽沉积等基板真空处理的真空处理系统。

背景技术

真空处理系统是指包含用于在封闭的处理空间中进行真空处理的工序模块等的系统，在该工序模块中，对放置于基板支承台上的基板的表面进行蒸汽沉积、蚀刻等真空处理工序。

真空处理系统根据处理对象基板的种类、真空处理的种类，可各种各样地构成，包括装载/卸载模块、工序模块以及传送机器人，其中，装载/卸载模块用于装载或者卸载基板，工序模块用于从装载/卸载模块接收基板并进行真空处理等设定的工序，传送机器人用于在装载/卸载模块与工序模块之间传送基板。

这时，一般情况下，每次会传送一张真空处理对象即基板，然而在真空处理对象为普通的太阳能电池用基板之类的小型基板的情况下，考虑到工序效率，可以利用托盘来一次传送多个基板。

并且，为了提高真空处理的效率，上述真空处理装置可以在装载了多个基板的托盘的上侧覆盖形成了若干个槽的遮盖部件后进行真空处理。

另一方面，在如上所述的真空处理系统中，决定真空处理系统的性能的重要因素之一为TACT(Turn Around Cycle Time，回转周期时间)，该TACT被定义成对基板的装载、对基板的真空处理、对完成工序的基板的卸载所需的时间。

尤其是，在执行真空处理工序的工序模块内，执行对托盘上的遮盖部件进行覆盖或者除去的情况下，由于用于真空处理工序的工序模块的结构变得复杂而存在其制造费用增加的问题。

并且，现有的真空处理系统由于托盘上基板的装载/卸载，遮盖部件的覆盖及去除操作效率不高，因而存在TACT变长的问题。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明的目的在于解决上述问题，提供一种真空处理系统及真空处理系统的托盘的传送方法，可以迅速并有效地进行托盘上基板的装载/卸载以及遮盖部件的覆盖及去除操作。

本发明的另一目的在于解决上述问题，提供一种真空处理系统、真空处理系统上使用的缓冲模块及真空处理系统的托盘的传送方法，可以将托盘上的基板装载/卸载过程及覆盖托盘上侧形成了若干个槽的遮盖部件的覆盖过程在不同的空间中来进行，从而可以显著地缩短装载基板、对基板进行真空处理、直到对完成工序的基板进行卸载为止所需要的时间。

本发明的又一目的在于提供一种真空处理系统、真空处理系统上使用的缓冲模块及真空处理系统的托盘的传送方法，可以配置包括两个以上用于临时存储托盘的缓冲部的缓冲模块，可以显著地提高真空处理的速度。

(二)技术方案

作为为实现上述目而提出的本发明，提供了一种真空处理系统，上述真空处理系统包括：

装载/卸载模块，在托盘上对多个基板进行装载或者卸载；及

一个以上的工序模块，上述工序模块设置于上述装载/卸载模块一侧，并且形成有封闭的处理空间，以接收装载有多个基板的托盘并进行工序，

缓冲模块，其具备一个以上用于临时存储托盘的缓冲部，在从上述装载/卸载模块接收托盘，并向上述工序模块传送之前，在上述缓冲部中向托盘的上侧覆盖形成有若干个槽的遮盖部件，在从上述工序模块接收覆盖了遮盖部件的托盘，并向上述装载/卸载模块传送之前，去除托盘上的遮盖部件；及

传送部，在上述装载/卸载模块及上述工序模块之间传送托盘，及在上述工序模块及缓冲模块之间传送托盘。

上述缓冲模块可包括：

模块本体；

托盘支承部，设置于上述模块本体上，用于支承托盘；及

遮盖支承部，与上述托盘支承部一起形成用于临时存储托盘的缓冲部，并且向上述托盘支承部的上侧与其隔开间隔地设在上述模块本体上，以在托盘向上侧移动时被遮盖部件覆盖，在上述托盘向下侧移动时对上述遮盖部件进行支承，以能够从上述托盘去除上述遮盖部件。

上述缓冲部可为两个以上。

上述缓冲部可为上下设置。此时，上述缓冲模块可构成为能够使上述上下设置的缓冲部上下移动。并且，上述传送部可构成为能够使托盘向着上述上下设置的缓冲部上下移动。

另一方面，上述缓冲部可为水平设置。此时，上述缓冲模块可构成为能够使上述水平设置的缓冲部水平移动。并且，上述传送部构成为能够使托盘向着上述水平设置的缓冲部移动。

上述托盘支承部可形成为比遮盖支承部更为突出。