[发明专利]聚对苯二亚甲基或聚取代的对苯二亚甲基薄层的沉积方法和装置

说明书

本发明涉及一种装置，其用于沉积一层或多层聚对苯二亚甲基薄层或聚取代的对苯二亚甲基薄层，所述装置包括用于蒸发固态或液态起始材料的加热蒸发器，所述起始材料特别为聚合物、尤其为二聚物的形式，在所述蒸发器中连接了载气用的载气供应管，通过该载气供应管将蒸发的起始材料、特别是蒸发的聚合物尤其是二聚物的载气运送至蒸发器下游的可加热的分解室、特别是热解室中，在该可加热的分解室中起始材料发生分解，尤其是分解成单体，所述装置还包括分解室下游的沉积室，所述沉积室包括进气口、基座和出气口，由载气运送的分解产物、尤其是单体通过所述进气口进入，所述基座具有与进气口相对的、可冷却的支撑面，所述可冷却的支撑面用于支撑要用聚合物分解产物、尤其是单体涂覆的基材，所述载气和未聚合的分解产物特别是单体通过所述出气口离开，其中所述进气口构成了气体平面分配装置，所述气体平面分配装置具有与支撑面平行延伸的、可加热的出气表面，所述出气表面具有大量的在整个出气表面上分布设置的出气口。

本发明另外涉及一层或多层聚合物材料薄层的沉积方法，所述聚合物材料特别为聚对苯二亚甲基或聚取代的对苯二亚甲基，其中在蒸发器中将固态或液态的聚合物、特别是二聚物形成的起始材料蒸发，所述起始材料、特别为二聚物借助载气从蒸发器经过载气供应管运送至分解室、特别是热解室中，在分解室中分解、特别是以热解方式分解成单体，分解产物、特别是单体通过载气从分解室运送至沉积室中，在沉积室中基材置于基座的支撑面上，在这里经过进气口流入沉积室，其中分解产物、特别是单体与载气一起在垂直于基材表面的方向上从由进气口形成的气体平面分配装置的出气表面的出气口排出并且在基材的表面上聚合成薄层，其中出气表面平行于支撑面延伸，载气和未聚合的分解产物、特别为单体从出气口离开操作室，其中冷却支撑面并且加热与支撑面相对的出气表面使得出气表面的表面温度高于支撑面的表面温度。

US 6,709,715 B1、US 6,362,115 B1和US 5,958,510 A公开了一种用于沉积对苯二亚甲基的装置，其中借由载气将起始材料给料至分解室在此分解，将分解产物引至操作室的进气口，经过进气口引入操作室中且在冷却的基材上进行聚合。进气口系统具有平板，该平板提供了大量的开口且平行于基材在整个表面上延伸。

US 4,945,856记载了一种方法，其中将固态起始材料(对苯二亚甲基二聚物)变为气态。将所述气体经过气体管线运送至热解室中。在此二聚物分解成单体。单体通过载气经过气体管线运送进入操作室。在此单体进入由管开口形成的进气口从而在位于基座支撑面上的基材上冷凝。操作室另外还具有出气口，在基材表面上未聚合的单体从该出气口排出。在出气口下游的冷却阱中，冷冻载气中的单体。操作室中的压力通过位于冷却阱下游的真空泵进行调节。

使用的对苯二亚甲基共聚物记载于US 3,288,728中。它们是聚对苯二亚甲基系列的C、N、D聚合物，在室温时处于固态粉末相中或处于液相中。

从“Characterization of Parylene Deposition Process for the Passivation of Organic Light Emitting Diodes”，Korean J.Chem.Eng.，19(4)，722-727(2002)已知可通过聚对苯二亚甲基和其衍生物的层钝化、特别为包封OLED。另外，已知在真空中提供各种用聚对苯二亚甲基涂覆的大面积基材。例如，用无孔透明聚合物膜通过气相冷凝法涂覆玻璃、金属、纸、油漆、塑料、陶瓷、铁素体和聚硅氧烷。此处利用了聚合物涂层的疏水、耐化学物质和电绝缘性能。

本发明的目的是提供一种方法，通过该方法可以沉积大面积的、薄的并且层厚均匀的聚合物层。

该目的通过权利要求中给出的发明得以实现，其中每个权利要求代表一种独立的实现该目的的方法且可与任一其他权利要求组合。