[发明专利]蒸镀装置及薄膜装置的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜的蒸镀装置，特别涉及具备离子枪和中和器的蒸镀装置、以及使用该蒸镀装置的制造薄膜装置的方法。

另外，在本说明书中，所谓电气悬浮是指与其它部件电绝缘的状态。

背景技术

以往，在真空容器内向基板表面蒸发薄膜材料时，已知有通过向堆积在基板上的蒸镀层照射离子来进行致密化的蒸镀装置(离子辅助蒸镀装置)。在这样的蒸镀装置中，利用离子枪向基板照射较低能量的气体离子，同时利用中和器向基板照射中和电子(电子)，由此可中和因气体离子导致的基板上的电荷的偏移，同时利用气体离子的动能来制作致密的膜(例如专利文献1、2)。

在专利文献1、2中所示出的技术中，如图4所示，高折射物质和低折射物质由多个蒸发源134，136交替蒸发、进行层积，可得到由多层膜构成的防反射膜。在这样的技术中，在高折射物质与低折射物质的各自成膜时，利用从离子枪138中照射出的氩离子、氧离子使附着在基板114上的蒸发物质致密化，同时利用从中和器140中照射出的中和电子来防止基板等带电。

专利文献1：日本特开H10-123301号公报

专利文献2：日本特开2007-248828号公报

发明内容

然而，根据上述专利文献1或专利文献2所示的技术，如果欲将离子照射到整个基板上，则不能避免从离子枪中照射出的离子的一部分与真空容器100的壁面相碰撞的现象。因此，附着在真空容器100的壁面的物质由于离子的碰撞而飞散，作为异物附着在成膜中的基板上，产生成膜不良。

另外，由于难于对从离子枪中照射出的离子的照射范围进行控制，因而会产生如下现象：从离子枪中照射出的离子的一部分在到达基板前与从中和器中照射出的电子发生反应而中和。因此不能对到达基板前被中和的离子或电子进行有效利用，进而对应于被中和的离子量消耗了额外的离子电流。

鉴于上述问题点，本发明的目的在于提供一种蒸镀装置，其能够对从离子枪中照射出的离子的照射范围进行控制，可制造出高洁净度且高精度的光学过滤器。

此外，本发明的其它目的在于提供一种蒸镀装置，其高效率应用离子枪和中和器，能够谋求光学过滤器的制造成本的降低。

对于上述课题，可通过方案1的蒸镀装置来解决，方案1的蒸镀装置具备：接地的真空容器、被支承在该真空容器内的基板支架、能够保持在该基板支架上的基板、离开该基板规定距离并与该基板相向的蒸镀单元、用于对上述基板照射离子的离子枪、以及用于对上述基板照射电子的中和器，其中，上述中和器以电子照射口朝向上述基板的方向的方式进行配设，并且，上述离子枪按照离子照射口与上述基板相向的状态配设在上述真空容器内部的与配设上述基板支架的一侧相反方向的一侧；在从上述离子枪的上述离子照射口朝向上述基板支架的位置，按照使从上述离子照射口中照射出的上述离子的扩散范围缩小的方式配设有用于限制离子的照射范围的照射离子导向部件；上述照射离子导向部件相对于上述真空容器电气悬浮。

由此，本发明的蒸镀装置具备用于限制从离子枪中照射出的离子的照射范围的照射离子导向部件，该照射离子导向部件相对于真空容器电气悬浮。因此，对于照射离子导向部件的离子通过侧，伴随着离子的照射而带有与离子相同的电荷，将离子引导到与照射离子导向部件相斥的方向。由此在限制离子的照射范围的同时抑制照射范围的变化，能够减少与真空容器内侧的壁面相碰撞的离子。因此，通过采用本发明的蒸镀装置，能够减少附着在基板上的异物，能够制作高洁净度且高精度的光学过滤器。

更详细地说，在方案2中，优选：在从上述中和器的上述电子照射口朝向上述基板支架的位置，按照使从上述电子照射口中照射出的上述电子的扩散范围缩小的方式配设有用于限制电子的照射范围的照射电子导向部件；上述照射电子导向部件相对于上述真空容器电气悬浮。

如此，本发明所述的蒸镀装置进一步具有用于限制从中和器中照射出的电子的照射范围的照射电子导向部件，该照射电子导向部件相对于真空容器电气悬浮。因此可有效限制从中和器中照射出的电子的照射范围。因此，可抑制从离子枪中照射出的离子或照射离子导向部件、与从中和器中照射出的电子发生反应而中和，可抑制从离子枪中照射出的离子及从中和器中照射出的电子的损失。此外，由于从离子枪中照射出的离子或照射离子导向部件、与电子的反应少，因而能够防止真空容器内电位结构的偏移或离子的照射范围的偏移。因此能够高效率利用离子枪和中和器，可谋求光学过滤器的制造成本的降低。