[发明专利]用于制备二烯基-钌配合物的方法

权利要求书

1.一种制备下式的二烯基-钌配合物的方法：

Ru(+II)(二烯基)₂，

其中将下式的钌起始化合物：

Ru(+II)(X)_p(Y)_q，

其中

X＝阴离子基团，

Y＝不带电的双电子供体配位体，

p＝1到2的整数，

q＝1到6的整数，

与二烯配位体L在无机和/或有机碱的存在下以单步工艺反应。

2.根据权利要求1的方法，其中由二烯配位体L产生二烯基阴离子(L^-)在钌(II)起始化合物存在下进行。

3.根据权利要求1或2的方法，其中所述反应在极性有机溶剂或者极性有机溶剂与水的混合物中进行。

4.根据权利要求1到3任一项的方法，其中二烯配位体L在其分子结构中具有至少两个＞C＝X(其中X＝CR₂、O、S、NR)类型的不饱和基团，并且这些基团中的至少一个表示＞C＝C＜双键，以及在二烯配位体L与碱的反应之后，存在二烯基阴离子(L^-)，其中负电荷分布于共轭π-电子体系。

5.根据权利要求1到4任一项的方法，其中二烯配位体L是环状二烯并选自取代或未取代的环戊二烯、芴和茚。

6.根据权利要求1到4任一项的方法，其中二烯基阴离子(L^-)的负电荷分布于非芳族体系的共轭π-电子体系。

7.根据权利要求6的方法，其中该二烯配位体L是开链二烯并选自取代或未取代的戊二烯、己二烯和庚二烯。

8.根据权利要求6的方法，其中该二烯配位体L是环状二烯并选自取代或未取代的环己二烯、环庚二烯或环辛二烯。

9.根据权利要求6的方法，其中该二烯配位体L是杂原子取代的二烯类似物并且包括异亚丙基丙酮(2-甲基-4-氧-2-戊烯)或(N-3-亚丁-1-烯基)-甲胺。

10.根据权利要求6的方法，其中二烯配位体L选自1，3-戊二烯、2，4-二甲基-1，3-戊二烯、2，4-二甲基-1，4-戊二烯、2，3，4-三甲基-1，3-戊二烯、3-苯基-1，3-戊二烯、2-甲基-1，3-戊二烯或3-(三甲基硅烷基)-1，3-戊二烯及其混合物。

11.根据权利要求1到10任一项的方法，其中加入的二烯配位体的量为1到4当量，优选2到3当量(在所有情况下基于Ru起始化合物)。

12.根据权利要求1到11任一项的方法，其中将碱金属氢氧化物或碱土金属氢氧化物、碱金属碳酸盐或碱土金属碳酸盐、碱金属碳酸氢盐或碱土金属碳酸氢盐、碱金属磷酸盐或碱土金属磷酸盐、碱性氧化物如氧化钙或氧化铝，或它们的混合物用作无机碱。

13.根据权利要求1到11任一项的方法，其中将氨、二乙胺、三甲胺、三乙胺、乌洛托品、乙醇胺、吡啶、三乙醇胺、DBU(1，8-二氮杂二环[5.4.0]十一-7-碳烯)、DBN(二氮杂二环壬烷)、DABCO(1，4-二氮杂二环[2.2.2]辛烷)、咪唑或乙二胺或它们的混合物用作有机碱。

14.根据权利要求1到13任一的方法，其中加入的无机和/或有机碱的量为1到10当量，优选2到5当量(在所有情况下基于钌化合物)。

15.根据权利要求1到14任一项的方法，其中Ru(II)起始化合物的不带电的双电子供体配位体Y选自乙腈、水、四氢呋喃、二氧杂环己烷、二甲基亚砜、丙酮、吡啶、苯基氰、苄腈、丙烯腈、异腈、氨或胺基。

16.根据权利要求1到15任一项的方法，其中钌(II)起始化合物的阴离子基团X选自卤离子、拟卤离子、硫酸根离子(SO₄^2-)、三氟甲基磺酸根阴离子(CF₃SO₃^-)、硝酸根、高氯酸根、乙酸根或三氟醋酸根。