[发明专利]磁记录介质制造方法、磁记录介质和信息存储装置有效

专利信息
申请号: 200980128574.4 申请日: 2009-07-16
公开(公告)号: CN102105933A 公开(公告)日: 2011-06-22
发明(设计)人: 佐藤贤治;田中努;西桥勉;森田正;渡边一弘 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84;G11B5/65;G11B5/673;G11B5/855;H01F10/16;H01F10/32;H01F41/30
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;王凯
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 记录 介质 制造 方法 信息 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种磁记录介质的制造方法,该制造方法包括以下步骤:

人工格子形成步骤,在基板上交替地层叠多种类型的原子层而形成具有人工格子结构的磁性膜;以及

点间分隔步骤,将离子局部地注入到所述磁性膜的除了要成为磁性点的多个部位以外的其它部位中而降低饱和磁化强度,由此在该磁性点之间形成饱和磁化强度比该磁性点的饱和磁化强度小的点间分隔带,其中所述磁性点分别以磁的方式记录信息。

2.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造方法,该制造方法还包括以下步骤:

掩模形成步骤,在所述磁性膜上,在要成为所述磁性点的多个部位处,形成阻碍对所述磁性点的离子掺杂的掩模,

其中所述点间分隔步骤从多个部位处形成有所述掩模的磁性膜上方照射离子,由此将该离子局部地注入由该掩模保护的磁性点之间的部位。

3.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造方法,其中所述人工格子形成步骤通过交替地层叠Co原子层和铂族金属原子层来形成所述具有人工格子结构的磁性膜。

4.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造方法,其中所述人工格子形成步骤通过交替地层叠Co原子层和Pd原子层来形成所述具有人工格子结构的磁性膜。

5.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造方法,其中所述点间分隔步骤使用氧离子和氮离子中的至少一方作为所述离子。

6.根据权利要求2所述的磁记录介质的制造方法,其中所述掩模形成步骤通过抗蚀剂形成所述掩模。

7.根据权利要求2所述的磁记录介质的制造方法,其中所述掩模形成步骤使用纳米压印工艺通过抗蚀剂形成所述掩模。

8.一种磁记录介质,该磁记录介质包括:

基板;

设置在所述基板上的多个磁性点,各所述磁性点具有人工格子结构,在该人工格子结构中在所述基板上交替地层叠多种类型的原子层,并且信息以磁的方式被记录到各所述磁性点中;以及

设置在所述磁性点之间的点间分隔带,所述点间分隔带具有与所述磁性点的人工格子结构连续的人工格子结构,所述点间分隔带在人工格子结构中注入了离子而具有比所述磁性点的饱和磁化强度小的饱和磁化强度。

9.根据权利要求8所述的磁记录介质,其中所述人工格子结构是Co原子层和铂族金属原子层交替层叠的结构。

10.根据权利要求8所述的磁记录介质,其中所述人工格子结构是Co原子层和Pd原子层交替层叠的结构。

11.根据权利要求8所述的磁记录介质,其中所述点间分隔带注入了氧离子和氮离子中的至少一方作为所述离子。

12.一种信息存储装置,该信息存储装置包括:

磁记录介质,所述磁记录介质包括:

基板;

设置在所述基板上的多个磁性点,各所述磁性点具有人工格子结构,在该人工格子结构中在所述基板上交替地层叠多种类型的原子层,并且信息以磁的方式被记录到各所述磁性点中;以及

设置在所述磁性点之间的点间分隔带,所述点间分隔带具有与所述磁性点的人工格子结构连续的人工格子结构,所述点间分隔带在人工格子结构中注入了离子而具有比所述磁性点的饱和磁化强度小的饱和磁化强度;

磁头,其通过接近或接触所述磁记录介质,以磁的方式对所述磁记录介质进行信息的记录和/或再现;以及

头位置控制机构,其相对于所述磁记录介质的表面相对地移动所述磁头,将所述磁头定位在待进行所述磁头的信息记录和/或再现的磁性点上。

13.根据权利要求9所述的信息存储装置,其中所述人工格子结构是Co原子层和铂族金属原子层交替层叠的结构。

14.根据权利要求9所述的信息存储装置,其中所述人工格子结构是Co原子层和Pd原子层交替层叠的结构。

15.根据权利要求9所述的信息存储装置,其中所述点间分隔带注入了氧离子和氮离子中的至少一方作为所述离子。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科,未经株式会社爱发科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980128574.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top