[发明专利]用于制造微透镜的方法无效
申请号: | 200980130130.4 | 申请日: | 2009-08-04 |
公开(公告)号: | CN102112896A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 安杰利卡·凯克;克里斯托夫·门格尔;马克斯·沃伊特 | 申请(专利权)人: | 德国捷德有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;B42D15/00;G07D7/20;B29D11/00;B32B27/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 任宇 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 透镜 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种可用作为数据载体的验证装置或安全特征的微透镜基片,以及微透镜的制造方法和这种微透镜基片的制造方法。
背景技术
数据载体(如有价文件或证明文件)或其它有价物(例如带有商标的货物)经常为保护而提供有安全元件,所述安全元件允许检查物品的真实性,且同时用作防未授权复制的保护。
概念“数据载体”也不包括此数据载体的可循环的前期阶段,例如在安全文件的情况中以近似连续的形式存在且随后被进一步处理的数据载体前期阶段。在本发明中,数据载体尤其是指钞票、股票、债券(Anleihen)、证书(Urkunden)、凭单(Gutschein)、支票、高价入场券,以及其它有被伪造风险的文件,例如护照和其它证明文件,还有卡形数据载体,特别是芯片卡以及产品安全元件,例如标签、印记、包装等。
安全元件可嵌入此数据载体内,例如嵌入在钞票或芯片卡内,或构造为自携式的转移元件,例如构造为补丁(Patch)或标签,所述转移元件在制造后安装在待保护的数据载体或其它物品上。
安全元件通常产生良好可见的光学印象,因此该安全元件除其作为安全手段的功能外,偶尔也用作装饰元件。
为防止例如使用高级彩色复印设备伪造或仿制安全元件,安全元件通常具有光学可变元件,当观察者在不同的观察角度下观察时,所述光学可变元件给出不同的图像印象,且示出例如不同的颜色印象或不同的图形主题。在此方面,例如已知使用具有压印全息图形式的微米或纳米衍射光学结构,或使用另外的类似于全息图的衍射结构。
为产生光学可变元件,此外已知使用微透镜设备。例如,EP0219012A2公开了一种平行的、相互对接的圆柱透镜的规则布置,所述布置取决于视向由于圆柱透镜的会聚效果仅示出分别处于圆柱透镜下方的条形区域。在圆柱透镜下方因而布置了条形的拆分图像,所述拆分图像对于观察者根据视向组合为完整图像。根据观察角度,在此在圆柱透镜水平布置时可见不同的图像,从而可产生翻转图像或动画。如果圆柱透镜处于垂直方向,则可在图像内引入立体视差,从而可使观察者产生空间印象。
除使用圆柱透镜外,也已知的是,使用规则布置的球面透镜,如在云纹(Moire-)放大设备中所使用。
US5712731A涉及使用此云纹放大设备作为安全特征的应用。US5712731A中所描述的安全设备具有基本上相同印制的微图像的规则布置,以及基本上相同的球面微透镜的规则的二维布置。在此,微透镜装置具有与微图像布置基本上相同的分布。如果通过微透镜装置观察微图像布置,则在两个布置基本上配准的区域内,对于观察者产生一个或多个放大的微图像形象。
此类云纹放大设备的原理上的功能方式在M.C.Hutley,R.Hunt,R.F.Steven and P.Savander等人发表于Pure Appl.Opt.3(1994)的第133-142页的文章“The moirémagnifier”中描述。简言之,云纹放大表明了一种现象,所述现象在通过其栅格尺寸与由相同图像对象构成的栅格近似相同的透镜栅格来观察所述图像栅格时发生。如在每对类似的栅格中,在此出现了云纹图,所述云纹图在此情况中作为重复图像栅格的重复元素的放大的且必要时旋转的图像出现。基于此机制的另外的构造变化和效果例如在Kamal等人发表于Optical Engineering 37(11)的第3007-3014页(1998年11月)中的文章“Properties of moirémagnifier”中描述。
如EP1147912B1中描述,规则的微透镜布置也可用作用于安全元件的验证装置。在此,安全元件的特定结构仅在通过此验证元件进行观察时才对于观察者可见,因此可以对平常的(unbefangen)观察者隐藏安全元件的功能。
为制造此微透镜设备,在现有技术中已知不同的技术。在EP1878584A2中,为此公开了借助于凹版印刷将光学漆印制在支承基片上。在凹版印刷板上形成凹陷,所述凹陷形成希望的透镜设备的负形状。此外,此文献也公开了将凹印版用作压印工具,借助于所述压印工具将希望的微透镜设备例如形成在层压片内。此类方法也在EP0698256B2中描述,其中,此处替代地也公开了联合使用光刻胶层(Photoresistschicht)和合适的掩模来制造微透镜。
在DE102006003798A1中作为另外的替代描述了底漆层的部分涂敷,这例如产生了表面张力的局部改变,而所述局部改变可用于制造微透镜。
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