[发明专利]真空泵系统

权利要求书

1. 一种真空泵系统，包括：

至少一个真空泵机构；

用于驱动所述至少一个真空泵机构的马达；

通过监控在一段时间上的所述马达的特性来确定在所述一段时间上所述真空泵系统的累积负载的装置；以及

当所述累积负载超过预定量时启动对所述系统的维修活动的装置。

2. 如权利要求1所述的真空泵系统，其中所述特性是所述马达驱动所述真空泵机构所需的功率。

3. 如权利要求2所述的真空泵系统，其中所述确定装置能够监控所述马达内的电流以便确定所述功率。

4. 如前述任一权利要求所述的真空泵系统，其中所述累积负载等于所述真空泵机构在一段时间上的操作期间所泵送的流体的总质量流量。

5. 如权利要求4所述的真空泵系统，其中所述真空泵系统的状况与所述真空泵系统泵送的流体的质量流量成比例地恶化，且其中所述预定量是预定的使得当所述累积负载超过所述预定量时所述泵系统需要执行维修活动以便修复所述状况。

6. 一种用于处理系统的如前述任一权利要求所述的真空泵系统，其包括处理室和传输室，晶片能够在所述处理室中被处理，晶片能够通过所述传输室被传输至所述处理室以便处理且在处理之后从所述处理室中传输出，所述真空泵系统包括：

第一所述真空泵机构，其由第一所述马达驱动以从所述处理室中排出气体；以及

第二所述真空泵机构，其由第二所述马达驱动以从所述传输室中排出气体；

其中，所述确定装置通过监控所述第一马达或所述第二马达的所述特性来确定一段时间上所述真空泵系统上的累积负载。

7. 如权利要求6所述的真空泵系统，其中在抽气期间，所述第二真空泵机构将所述传输室中的压力从晶片被引入所述传输室的第一压力降低至晶片从所述传输室传输至所述处理室以便处理的第二压力；

其中在每次抽气期间所述第二马达的所述监控的特性会增加且当所述第二真空泵机构没有降低所述传输室中的压力时减小；以及

其中所述累积负载是所述处理系统处理的晶片的数量且所述确定装置被配置成通过计算所述第二马达的所述监控的特性的增加的数量来确定所述累积负载。

8. 如权利要求6所述的真空泵系统，其中在处理步骤期间将处理气体引入所述处理室且由所述第一真空泵机构将所述处理气体从所述处理室中排出；

其中所述第一马达的所述监控的特性在每个处理步骤期间会增加且当所述第一真空泵机构没有从所述处理室中排出气体时减小；以及

其中所述累积负载等于在多个处理步骤期间由所述第一真空泵机构泵送的处理气体的所述总质量流量且所述确定装置被配置成通过确定所述第一马达的所述监控的特性随时间增加的量来确定所述累积负载。

9. 如权利要求8所述的真空泵系统，其中所述累积负载与所述监控的特性相对于时间的积分成比例，且所述确定装置包括用于求所述特性相对于时间的积分的积分装置。

10. 如权利要求7所述的真空泵系统，其中与所述第一真空泵机构和/或所述第二真空泵机构相关联的所述真空泵系统的状况与由所述处理系统处理的晶片的数量成比例地恶化；以及

其中当由所述系统处理过的晶片的数量超过预定量时，所述启动装置配置成引发维修活动以修复所述状况。

11. 如权利要求8或9所述的真空泵系统，其中与所述第一真空泵机构和/或所述第二真空泵机构相关联的所述真空泵系统的状况与由所述第一真空泵装置从所述处理室排出的处理气体的总质量流量成比例地恶化；以及

其中当处理气体的所述总质量流量超过预定量时，所述启动装置配置成引发维修活动以改进所述状况。

12. 如权利要求10或11所述的真空泵系统，其中与所述第一真空泵机构和/或所述第二真空泵机构相关联的所述真空泵系统的状况根据作为由所述处理系统处理的晶片的数量以及由所述第一真空泵装置从所述处理室排出的处理气体的总质量流量的函数的所述累积负载而恶化；以及

其中当所述累积负载超过预定量时，所述启动装置被配置成引发维修活动以改进所述状况。

13. 如权利要求12所述的真空泵系统，其中所述确定装置被配置成确定作为由气体的所述总质量流量调节的晶片的数量的函数的所述累积负载。