[发明专利]负型感光性组合物、使用该组合物的光学元件用间隔壁及具有该间隔壁的光学元件

说明书

技术领域

本发明涉及负型感光性组合物、使用该组合物的光学元件用间隔壁及该间隔壁的制造方法以及使用喷墨法的光学元件的制造方法，该光学元件是彩色滤光片、有机EL显示元件、有机TFT阵列等具有由间隔壁划分出的多个像素的光学元件。

背景技术

抗蚀剂组合物作为形成彩色滤光片的像素间的间隔壁、有机EL(电致发光，Electro-Luminescence)显示元件的像素间的间隔壁、将有机TFT(Thin Film Transistor：薄膜晶体管)阵列的各TFT划分开的间隔壁、液晶显示元件的ITO电极的间隔壁、电路布线基板的间隔壁等永久膜的材料正受到关注。

此外，提出了采用喷墨记录技术法的低成本化工艺，所述喷墨记录技术法是在形成上述间隔壁后通过喷墨法注入液体。

例如，彩色滤光片的制造中，提出了向微小像素内喷涂R(红)、G(绿)、B(蓝)的油墨的喷墨法。在这里，像素图案的形成通过采用抗蚀剂组合物的光刻法进行，抗蚀剂组合物的涂膜固化物被用作像素间的间隔壁。

有机EL显示元件的制造中，提出了采用向微小像素内喷涂空穴传输材料、发光材料的溶液来形成空穴传输层、发光层等的喷墨法。在这里，像素图案的形成通过采用抗蚀剂组合物的光刻法进行，抗蚀剂组合物的涂膜固化物被用作像素间的间隔壁。

有机TFT阵列的制造中，提出了喷涂有机半导体的溶液的喷墨法，划分各TFT的间隔壁的形成通过采用抗蚀剂组合物的光刻法来进行，抗蚀剂组合物的涂膜固化物被用作间隔壁。

液晶显示元件的制造中，提出了在ITO(掺锡氧化铟)电极形成时喷涂ITO溶液或分散液的喷墨法，ITO电极图案的形成通过采用抗蚀剂组合物的光刻法进行，抗蚀剂组合物的涂膜固化物被用作间隔壁。

布线电路基板的制造中，提出了在形成电路布线时喷涂金属分散液的喷墨法。在这里，电路布线图案的形成通过采用抗蚀剂组合物的光刻法进行，抗蚀剂组合物的涂膜固化物被用作间隔壁。

喷墨法中，必须防止相邻的像素间的油墨的混色的发生和通过喷墨法喷射的材料在规定区域以外的部分的固着。因此，间隔壁被要求具有排斥作为喷墨的涂布液的水或有机溶剂等的性质，即拒油墨性。

于是，开发出了用于形成上述具有拒油墨性的间隔壁的抗蚀剂组合物，例如专利文献1中揭示了包含具有多氟烷基、聚二甲基硅氧烷基和乙烯性双键的含硅树脂的感光性树脂组合物。

但是，如果使用这样的赋予拒油墨性的组合物来制造彩色滤光片、有机EL显示元件、有机TFT阵列等的间隔壁，则间隔壁附近的油墨层的膜厚可能会变薄，发生间隔壁周边呈现白色的所谓漏白现象。

用抗蚀剂组合物的涂膜固化物形成间隔壁时，在显影工序中将成为像素点(被间隔壁围住的油墨注入区域)的部分的抗蚀剂组合物被除去。但是，使用赋予间隔壁以拒油墨性的抗蚀剂组合物时，如果未充分地将其除去，则组合物残渣对油墨注入造成不良影响，成为导致上述漏白现象的一大原因。此外，间隔壁虽然由抗蚀剂组合物的涂膜固化物构成，但有时也有未进行固化反应的分子残存在间隔壁内，认为在之后的后烘烤工序中，该分子也可能会从间隔壁迁移(migrate)至像素点而污染像素点，成为导致上述漏白现象的一大原因。

为了防止所述漏白现象，以形成间隔壁后除去残留于像素点的杂质等为目的，例如考虑实施采用碱水溶液的清洗处理、UV清洗处理、UV臭氧清洗处理、准分子激光清洗处理、电晕放电处理、氧等离子体处理等亲油墨化处理。但是，如果用这些方法实施亲油墨化处理，则存在间隔壁的拒油墨性也下降的问题。UV清洗处理等中，作为在不降低间隔壁的拒油墨性的情况下实施亲油墨化的方法，专利文献2中提出了用树脂保护间隔壁的方法，但需要除去树脂的工序，因此很繁琐。专利文献3中提出了使用特定结构的硅氧烷化合物作为耐UV臭氧性树脂的技术方案，但因为是正型，所以与基板的密合性可能存在问题。

于是，要求开发出具有能耐受UV臭氧清洗等亲油墨化处理的拒油墨性、并且能形成油墨的浸润性优良的像素点的光学元件的间隔壁形成用的负型感光性组合物。

专利文献1：国际公开第2004/079454号文本

专利文献2：日本专利特开2002-22933号公报

专利文献3：国际公开第2007/132892号文本

发明的揭示

本发明的课题在于提供可用于制造即使经过亲油墨化处理也能保持优良的拒油墨性的间隔壁的负型感光性组合物。

本发明的课题在于提供可用于制造即使经过亲油墨化处理也能保持优良的拒油墨性的光学元件的间隔壁及其制造方法。