[发明专利]磁式旋转检测装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200980132469.8 申请日: 2009-09-02
公开(公告)号: CN102124304A 公开(公告)日: 2011-07-13
发明(设计)人: 赤羽健彦;常田晴弘;长田圭司;矢崎俊悟 申请(专利权)人: 日本电产三协株式会社
主分类号: G01D5/12 分类号: G01D5/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 马淑香
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 旋转 检测 装置 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种用于检测旋转体的角度位置、旋转速度等的磁式旋转检测装置及其制造方法。

背景技术

旋转检测装置中、作为非接触式检测装置有光学式检测装置和磁式检测装置,磁式旋转检测装置与光学式旋转检测装置相比,具有能在灰尘、水分大量存在的环境下、液体中使用等优点。即,磁式旋转检测装置一般包括:形成有由S极和N极构成的磁极对的磁体;以及对该磁体旋转时的角度位置、旋转速度进行检测的磁敏元件,即使灰尘、水分附着于磁体,也不会使灵敏度降低。在上述磁式旋转检测装置中,例如,在磁体的外周面形成有多个由S极和N极构成的磁极对,在与上述磁体的外周面对向的位置配置有磁敏元件(参照专利文献1)。

专利文献1:日本专利特开2008-151774号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

在上述磁式旋转检测装置中,要求磁体与磁敏元件之间具有较高的位置精度。因此,目前,由于对装设磁式旋转检测装置的设备侧进行各种加工以通过上述加工来进行磁体与磁敏元件的对位,所以,存在花费很多的工夫的问题。

本发明鉴于上述问题而作,其目的在于提供一种即使不进行很费工夫的加工,也能以较高的精度对磁体与磁敏元件进行对位的磁式旋转检测装置及其制造方法。

解决技术问题所采用的技术方案

为了解决上述技术问题,在本发明中,磁式旋转检测装置具有:形成有由S极和N极构成的磁极对并设于旋转体侧的磁体;以及在上述旋转体的旋转中心轴线方向上与上述磁体对向的磁敏元件,其特征是,还包括:设于上述磁体与上述磁敏元件之间的分隔构件;以及固定于上述分隔构件中上述磁体所在一侧的表面的环,上述磁敏元件的中心位于上述环的中心轴线上,上述磁体以与上述环不接触的状态配置于上述环的内侧,且上述磁体的中心位于上述环的中心轴线上。

在本发明中,由于将分隔构件配置于磁体与磁敏元件之间,并以固定于上述分隔构件的环为基准来调节磁敏元件及磁体的位置,因此,能以环为基准以较高的位置精度配置磁敏元件及磁体。

在本发明中,作为优选,在上述磁体上形成有一对S极和N极。即,在本发明中,减少形成于磁体的磁极对,但是,对由磁敏元件获得的信号例如执行进行插值处理以求出零交叉点等的运算处理来确保分辨能力。根据上述结构,由于将形成于磁体的磁极对减少至最少一对,因此,即使磁体与磁敏元件稍微远离,也具有足够的灵敏度。所以,能将分隔构件设于磁体与磁敏元件之间,并能将环固定于上述分隔构件。能利用分隔构件来保护磁敏元件免受灰尘、水分的影响。

在本发明中,作为优选,上述磁敏元件配置于上述分隔构件中朝上述磁体所在一侧凹陷的凹部内。对于使分隔构件整体变薄存在限制,但若将凹部设于分隔构件并将磁敏元件配置于上述凹部内,则即使在磁敏元件与磁体之间设置分隔构件的情况下,也能使磁敏元件与磁体接近。

在本发明中,作为优选,上述磁敏元件安装于基板上,上述基板与上述分隔构件中形成于上述凹部周围的基板承受部重叠配置,上述磁敏元件与上述凹部的底部之间隔着间隙。磁敏元件存在对于应力较弱这样的缺点,但当采用上述结构时,能将磁敏元件以非接触状态配置于凹部的底部。因此,即使在使磁敏元件与磁体接近的情况下,由于对磁敏元件不施加应力,所以,磁敏元件也能发挥较高的灵敏度。

在本发明中,作为优选,上述磁敏元件的外周端部与上述凹部的内周侧面抵接,从而使上述磁敏元件定位于上述凹部。根据上述结构,能提高磁敏元件与凹部之间的位置精度,其结果是,即使在以环为基准使分隔构件与磁体对位后将磁敏元件固定于分隔构件的情况、或在以环为基准使磁敏元件与磁体对位后将磁敏元件固定于分隔构件的情况中的任一种情况下,也能提高磁敏元件与磁体的位置精度。

在本发明中,能采用以下结构,上述磁敏元件在表面具有保护层,上述保护层的外周端部与上述凹部的内周侧面接触。若采用这种结构,则即便使磁敏元件的外周端部与凹部的内周侧面接触,也不会对磁敏元件施加多余的应力。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电产三协株式会社,未经日本电产三协株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980132469.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top