[发明专利]静电卡盘及真空处理装置有效

专利信息
申请号: 200980133591.7 申请日: 2009-08-17
公开(公告)号: CN102132395A 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 佐藤正幸;冈正;中村久三 申请(专利权)人: 爱发科股份有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H02N13/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王轶;李伟
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 静电 卡盘 真空 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种静电卡盘,其具有由电介质构成的卡盘平板和设置于卡盘平板的第1电极和第2电极,并通过对第1和第2两电极间施加电压,将处理基板吸附于卡盘平板的表面,

其特征在于,

在卡盘平板的表面的一部分,设置了对处理基板具有粘接力的基板保持部。

2.根据权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,

所述基板保持部的表面在自由状态下从所述卡盘平板的表面突出规定高度,当对所述第1和第2两电极间施加电压而将处理基板吸附于卡盘平板的表面时,基板保持部被压缩以使得基板保持部的表面与卡盘平板的表面成为一个面。

3.一种真空处理装置,其具有真空处理槽和设置在真空处理槽内的静电卡盘,使静电卡盘保持具有透光性的处理基板,对处理基板实施伴随光的照射的处理,

其特征在于,

使用权利要求1或2所述的静电卡盘作为静电卡盘。

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