[发明专利]EUV光刻设备的保护模块以及EUV光刻设备

权利要求书

1.一种保护模块，包括具有至少一个开口(37-47、204)的壳体(23-29、119-128、202)，在所述壳体中布置至少一个构件(13a、13b、15、16、18、19、103-107、110-115、116、206)，且在所述壳体提供一个或多个气体供应(30-36、118、203)，从而将气流引入所述壳体(23-29、119-128、202)，所述气流通过所述至少一个开口(37-47、204)流出，其特征在于：光源(48-56、130-143、207-209)被布置在所述至少一个开口(37-47、204)处。

2.如权利要求1所述的保护模块，其特征在于：所述光源(48-56、130-143、207-209)发射的辐射的波长适于离解污染物质。

3.如权利要求1或2所述的保护模块，其特征在于：所述光源(48-56、130-143、207-209)是用于紫外辐射的光源。

4.如权利要求1至3的任一所述的保护模块，其特征在于：所述光源(48-56、130-143、207-209)具有宽带光谱。

5.如权利要求1至3的任一所述的保护模块，其特征在于：所述光源(48-56、130-143、207-209)具有窄带光谱。

6.如权利要求1至5的任一所述的保护模块，其特征在于：多个光源(207-209)被布置在所述至少一个开口(37-47、204)处。

7.如权利要求1至6的任一所述的保护模块，其特征在于：所述一个或多个光源(48-56、130-143、207-209)以所述至少一个开口(37-47、204)被完全照射的方式被布置和/或装备。

8.如权利要求1至7的任一所述的保护模块，其特征在于：所述一个或多个光源(48-56、130-143、207-209)被布置在所述壳体(23-29、119-128、202)的外侧。

9.如权利要求1至8的任一所述的保护模块，其特征在于：所述构件实现为反射光学元件(13a、13b、15、16、18、19、103-107、110-115、206)。

10.一种EUV光刻设备，其中如权利要求1至9的任一所述的至少一个保护模块(200)被布置。

11.一种用于EUV光刻设备的投射系统，其中如权利要求1至9的任一所述的至少一个保护模块(200)被布置。

12.一种用于EUV光刻设备的照明系统，其中如权利要求1至9的任一所述的至少一个保护模块(200)被布置。

13.一种用于EUV光刻设备的照明光束成形系统，其中如权利要求1至9的任一所述的至少一个保护模块(200)被布置。

14.一种EUV光刻设备，包括真空腔(22-25、101)以及至少一个构件(13a、13b、15、16、18、19、103-107、110-115、116)，其中所述构件被布置在所述真空腔(22-25、101)内的壳体(23-29、119-128)中，所述壳体具有一个或多个气体供应(30-36、118)，从而将气流引入所述壳体(23-29、119-128)，所述气流通过至少一个开口(37-47)自所述壳体(23-29、119-128)流出，其特征在于：光源(48-56、130-143)在所述至少一个开口(37-47、204)被布置在壳体(23-29、119-128)的外侧。

15.如权利要求14所述的EUV光刻设备，其特征在于：所述光源(48-56、130-143)发射的辐射的波长适于离解污染物质。

16.如权利要求14或15所述的EUV光刻设备，其特征在于：所述光源(48-56、130-143)是用于紫外辐射的光源。

17.如权利要求14至16的任一所述的EUV光刻设备，其特征在于：所述光源(48-56、130-143)具有宽带光谱。

18.如权利要求14至16的任一所述的EUV光刻设备，其特征在于：所述光源(48-56、130-143)具有窄带光谱。