[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板、磁盘的制造方法及磁盘

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主表面抛光工序，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的一个主表面以达到规定的算术平均粗糙度(Ra)的方式进行主表面抛光处理，以达到使所述玻璃基板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表面进行主表面抛光处理。

2.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主表面抛光工序，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的一个主表面，以达到为了进行磁记录而要求的算术平均粗糙度(Ra)的方式进行主表面抛光处理，以达到使所述玻璃基板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表面进行主表面抛光处理。

3.权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的另一个主表面进行的主表面抛光处理的次数比对所述玻璃基板的一个主表面进行的主表面抛光处理的次数少。

4.权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度为5.0nm以下。

5.权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，对所述玻璃基板的一个主表面以使算术平均粗糙度(Ra)达到0.30nm以下的方式进行主表面抛光处理。

6.权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，还具备通过光学式自动外观检查识别所述玻璃基板的一个主表面的工序。

7.一种磁盘用玻璃基板，具有一对主表面，其特征在于，一个主表面具有规定的算术平均粗糙度(Ra)，另一个主表面具有比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度。

8.一种磁盘用玻璃基板，具有一对主表面，其特征在于，一个主表面具有为进行磁记录而要求的算术平均粗糙度(Ra)，另一个主表面具有比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分的溶解析出的充分的粗糙度。

9.一种磁盘，其特征在于，在权利要求7或者8所述的磁盘用玻璃基板的所述一个主表面上至少形成有磁记录层。

10.一种磁盘，其特征在于，在权利要求7或者8所述的磁盘用玻璃基板的所述另一个主表面上形成有防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的基板构成成分溶解析出防止层。

11.一种磁盘，在具有一对主表面的磁盘用玻璃基板上至少形成有磁记录层，其特征在于，

只在所述磁盘用玻璃基板的具有为进行磁记录而要求的算术平均粗糙度(Ra)的一个主表面上至少形成有所述磁记录层，在另一个主表面上形成有防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的基板构成成分溶解析出防止层。

12.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，所述基板构成成分溶解析出防止层的厚度为4nm以上。

13.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，所述基板构成成分溶解析出防止层由含有钛单体的钛合金构成。

14.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，在所述基板构成成分溶解析出防止层上形成有磁盘翘曲防止层。

15.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，在所述基板构成成分溶解析出防止层上形成有在所述磁记录层上形成的保护层。

16.权利要求14所述的磁盘，其特征在于，在所述磁盘翘曲防止层上形成有在所述磁记录层上形成的保护层。

17.权利要求11所述的磁盘，其特征在于，形成于所述一个主表面上的层的合计厚度和形成于所述另一个主表面上的层的合计厚度相同。

18.一种磁盘的制造方法，其是在权利要求7或者8所述的磁盘用玻璃基板上至少形成有磁记录层而制成的磁盘的制造方法，其特征在于，只在一个主表面上至少形成磁记录层。