[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板、磁盘的制造方法及磁盘

说明书

技术领域

本发明涉及一种安装于硬盘驱动装置的磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板、磁盘的制造方法及磁盘。

背景技术

作为安装于硬盘驱动装置(HDD装置)的磁记录介质具有磁盘。磁盘通过在由铝镁合金等构成的金属板上附着NiP膜的基板、玻璃基板、陶瓷基板上层叠磁性层及保护层而制作。以往，作为磁盘用基板广泛使用铝合金基板，但是，随着近年来的磁盘小型化、薄板化、高密度记录化，正在使用与铝合金基板相比表面的平坦度及薄板的强度优良的玻璃基板。

这样的磁记录用玻璃基板经由如下工序制造，即，坯料加工工序及第一研磨工序(第一磨削工序)、端部形状工序(形成孔部的去芯工序、在端部(外周端部及内周端部)形成倒角面的倒角工序(倒角面形成工序))、端面抛光工序(外周端部及内周端部)、第二研磨工序(第二磨削工序)、主表面抛光工序(第一及第二抛光工序)、化学强化工序等。

磁盘的记录密度逐年增加，已开发出单面100GB以上的磁盘。现在，磁盘的两面都满足所需要的记录密度，但是，若这样增加记录密度，则在不太需要记录密度的电子仪器中，只要单面就能满足需要的记录密度。若这样用单面满足所需要的记录密度，则由于在HDD装置侧对一张磁盘将磁头设为一个等可减少部件个数因而对成本有利，且可实现薄型化。因此，可预想今后对只在单面设置磁性层的磁盘的需要将会增长(例如，参照特开2001-351229号公报(专利文献1))。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2001-351229号公报

发明内容

发明所要解决的课题

这样，对于只在单面设置磁性层的磁盘用玻璃基板，省略了对不设置磁性层的主表面的主表面抛光工序，可进行成本(抛光布、抛光剂(浆料)、加工费用、人工费等)的消减。特别是通过省略使算术表面粗糙度达到非常低的水平的第二抛光工序，可有效谋求成本消减。

但是，作为磁盘用玻璃基板的玻璃，有时使用含有钠及锂等碱金属的铝硅酸盐玻璃。这些碱金属有时因环境而在基板表面溶解析出。若这样在基板表面溶解析出碱金属，则通过目视观察可识别出白色状的污垢(所谓的腐蚀)。虽然这样的污垢可通过洗涤工序除去，但是，由于成为污染洗涤装置的原因，因而需要尽可能控制。

本发明是鉴于这一点而完成的，其目的之一在于，提供一种可得到防止腐蚀的发生，只以单面作为记录面使用的、高记录密度的磁盘用玻璃基板的磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘用玻璃基板。另外，本发明的另一目的在于提供一种在防止基板构成成分溶解析出的状态下，可只以单面为记录面使用的高记录密度的磁盘及其该磁盘的制造方法。

用于解决课题的手段

本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法包括对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主表面抛光工序，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的一个主表面以达到规定的算术平均粗糙度(Ra)的方式进行主表面抛光处理，以达到使所述玻璃基板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表面进行主表面抛光处理。

根据该方法，由于在主表面抛光工序中，以达到为防止构成磁盘用玻璃基板的成分的溶解析出的充分的粗糙度的方式进行主表面抛光处理，因而可防止基板构成成分从不作为磁记录面使用的主表面溶解析出，由此可抑制在不作为磁记录面使用的面发生腐蚀。

本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法包括对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主表面抛光工序，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的一个主表面，以达到为了进行磁记录而要求的算术平均粗糙度(Ra)的方式进行主表面抛光处理，以达到使所述玻璃基板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表面进行主表面抛光处理。

根据该方法，在作为磁记录面使用的主表面具有为进行磁记录而要求的算术平均粗糙度，同时可防止基板构成成分从不作为磁记录面使用的主表面溶解析出，由此可防止在不作为磁记录面使用的面发生腐蚀。

在本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，优选在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的另一个主表面进行的主表面抛光处理的次数比对所述玻璃基板的一个主表面进行的主表面抛光处理的次数少。根据该方法，可谋求成本的消减等。