[发明专利]图像处理方法、图像处理装置及使用该图像处理装置的表面检查装置无效
申请号: | 200980140443.8 | 申请日: | 2009-10-14 |
公开(公告)号: | CN102177428A | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
发明(设计)人: | 若叶博之;林义典;宫园浩一;川崎祥三;森秀树;浜谷和彦 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子装置股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01B11/24;G01N21/956 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 处理 方法 装置 使用 表面 检查 | ||
1.一种图像处理方法,其包括:
图像取得步骤,取得由像素单位的浓淡值构成的、包括物体表面图像的被处理图像;
边缘部图像确定步骤,将包括所述被处理图像中设定的所述物体表面图像的边缘线的、在与该边缘线正交的方向上为预定宽度的区域的图像,确定为边缘部图像;
变换步骤,将所述边缘部图像变换为宽度相当于所述预定宽度的矩形图像;以及
图像处理步骤,对所述矩形图像实施对在与该宽度方向正交的方向上排列的多个像素的浓淡值依次进行处理的一维图像处理。
2.根据权利要求1所述的图像处理方法,其中,该图像处理方法还包括逆变换步骤,将实施了所述一维图像处理的所述矩形图像逆变换为原来区域的图像,生成已处理边缘部图像。
3.根据权利要求1或2所述的图像处理方法,其中,在所述边缘部图像确定步骤中,将下述区域的图像确定为所述边缘部图像,所述区域是指在所述边缘线的所述物体表面图像的内侧方向上为第一预定宽度,在所述边缘线的所述物体表面图像的外侧方向上为第二预定宽度的区域。
4.根据权利要求1~3中任意一项所述的图像处理方法,其中,所述变换步骤包括:
位置变换步骤,取得所述边缘部图像中的与所述矩形图像的各个像素对应的位置;以及
根据所述边缘部图像中的各个像素的浓淡值,确定与取得的所述边缘部图像中的各个位置对应的、所述矩形图像的像素的浓淡值的步骤。
5.根据权利要求4所述的图像处理方法,其中,
预先生成表示所述边缘部图像中的与所述矩形图像的各个像素对应的位置的变换表,
在所述位置变换步骤中,使用所述变换表,取得所述边缘部图像中的与所述矩形图像的各个像素对应的位置。
6.根据权利要求2所述的图像处理方法,其中,所述逆变换步骤包括:
位置逆变换步骤,取得矩形图像中的与所述原来区域的图像的各个像素对应的位置;以及
根据实施了所述一维图像处理的矩形图像中的各个像素的浓淡值,确定与取得的所述矩形图像中的各个位置对应的、所述原来区域的图像中的像素的浓淡值,生成所述已处理边缘部图像。
7.根据权利要求6所述的图像处理方法,其中,
预先生成表示所述矩形图像中的与所述原来区域的图像的各个像素对应的位置的逆变换表,
在所述位置逆变换步骤中,使用所述逆变换表,取得所述矩形图像中的与所述原来区域的图像的各个像素对应的位置。
8.根据权利要求1所述的图像处理方法,其中,
在所述图像取得步骤中,取得包括圆盘状半导体晶片的表面图像的图像作为所述被处理图像,
在所述边缘部图像确定步骤中,将在与沿着所述半导体晶片表面图像的边缘的圆形线正交的方向上为预定宽度的环状区域的全部或者一部分的图像确定为边缘部图像。
9.根据权利要求2所述的图像处理方法,其中,
在所述图像取得步骤中,取得包括圆盘状半导体晶片的表面图像的图像作为所述被处理图像,
在所述边缘部图像确定步骤中,将在与沿着所述半导体晶片表面图像的边缘的圆形线正交的方向上为预定宽度的环状区域的全部或者一部分的图像确定为边缘部图像,
在所述逆变换步骤中,将实施了所述一维图像处理的所述矩形图像逆变换为原来的环状区域的全部或者一部分的图像,生成所述已处理边缘部图像。
10.根据权利要求8或9所述的图像处理方法,其中,在所述边缘部图像确定步骤中,将在所述圆形线的内侧为第一预定宽度、在所述圆形线的外侧为第二预定宽度的环状区域的全部或者一部分的图像,确定为边缘部图像。
11.根据权利要求1所述的图像处理方法,其中,在所述变换步骤中,将所述边缘部图像变换为由与下述各个位置对应的呈矩形排列的像素构成的矩形图像,所述各个位置是指该边缘部图像的沿着夹着所述物体图像的边缘线并且与该边缘线平行的两条划分线中的一条划分线、以预定间隔设定的各个位置,以及在与该划分线正交的法线上以预定间隔从该各个位置到另一条划分线设定的各个位置。
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