[发明专利]盘涂敷装置

说明书

技术领域

本发明涉及对药片或粉粒体进行涂敷处理的盘型的涂敷装置，特别涉及将供给到被处理物的空气(气体)的导入路径最优化而提高了涂敷性能的盘涂敷装置。

背景技术

在现有技术中，作为医药品或食品等的制造装置，众所周知有使用旋转滚筒的涂敷装置。例如，在专利文献1中表示了使多边形剖面(在此为八边形)的旋转滚筒以水平轴线为中心旋转的装置。这样的旋转滚筒也称为涂敷盘，在滚筒内部配置供给涂敷液的喷涂装置。投入到旋转滚筒内的粉粒体随着滚筒的旋转而滚动。在滚动的粉粒体的表面上，从喷涂装置喷洒糖衣液等的涂敷液。与涂敷液的喷洒一起，在旋转滚筒内从轴向端部的开口部(口环)适当地供给、排出热风或冷风，促进涂敷层的形成或干燥。

在用这样的涂敷装置进行糖衣涂敷处理时，首先，把成为核的被处理物(药片等，以下作为代表取作药片)收纳在滚筒内。其后，在使旋转滚筒旋转的同时，向滚筒内供给涂敷液(糖衣液)或粘合剂液，使其附着在药片的外周。在涂敷处理过程中，对药片适当地输送50～100℃左右的热风。由该热风使糖衣液蒸发干燥固定在药片表面上，形成涂敷层。另外，反复进行添加并干燥涂敷液的操作。由该反复操作，在药片外周层积若干层涂敷层，形成糖衣层。

专利文献1：日本特开平05-309253号公报

专利文献2：日本特开平08-173868号公报

专利文献3：日本特开平07-241452号公报

专利文献4：日本特开2004-148292号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，在上述那样的口环供气的涂敷装置中，因为不能充分确保空气供给口的面积，所以，存在供给到旋转滚筒内的空气的流速容易变得不均匀的问题。当供给空气的气流不均匀时，在涂敷处理时的喷涂雾中产生紊乱，存在不能把涂敷液或粘合剂液均匀地喷涂在药片上的问题。另外，当喷涂图形紊乱时，在到达药片之前，喷涂雾变干燥，也存在该干燥雾附着于滚筒而产生污染的问题。为了使供给空气的流速充分降低并稳定，有必要加长口环的直筒部，但当采用这样的构成时，从滚筒的口部到制品层的距离变长。为此，操作性显著恶化，同时存在装置本身也大型化的问题。

另一方面，在不进行口环供气的涂敷装置中，不会产生上述的问题。但是，例如在滚筒中央的直筒部整周通过冲孔金属形成的全面冲孔构成的涂敷装置中，因为从设于滚筒右肩(钟表2～4时方向)的供气通道进行供气，所以，滚筒的筒部容易被加热。为此，存在糖衣液固化附着在滚筒内面上的情况。

本发明的目的是在盘型的涂敷装置中，使供给到被处理物的空气的导入路径最优化，使气流稳定，使涂敷性能提高。

用于解决课题的手段

本发明的盘涂敷装置，该盘涂敷装置具备旋转滚筒和收纳上述旋转滚筒的框体，该旋转滚筒设置成以大体水平的旋转轴线为中心自由旋转，并且经由形成于轴向端部的开口部流入空气；其特征在于，上述盘涂敷装置具有供气腔和供气通道，该供气腔设于上述旋转滚筒的上述开口部前段，其一端侧与上述开口部连通，并且具有比该开口部大的截面面积，该供气通道与形成于上述供气腔的另一端侧的供气孔连接，向该供气腔内供给空气；上述供气腔使由上述供气通道流入到该供气腔内的空气的流速降低，将该空气供给到上述开口部。

在本发明的盘涂敷装置中，因为从供气通道经由大容积的供气腔向旋转滚筒进行供气，所以，即使进行大风量通气，也可充分降低供给到旋转滚筒内的空气的流速，气流也稳定。当气流稳定时，可以在旋转滚筒内不造成喷涂图形紊乱地进行涂敷处理，提高产品质量。另外，涂敷粉尘的飞散也变少，滚筒清理工作量也可减少。进而，因为不需要用于稳定气流的长的直筒部，所以，也可以缩短从旋转滚筒的口部到产品层的距离，改进操作性，同时使装置本身也小型化。

在上述盘涂敷装置中，也可以相对于上述开口部的截面面积，将上述供气腔的与上述开口部相向的截面面积设定为2倍以上且8倍以下。另外，也可以在上述框体正面的与上述开口部相向的位置上自由开闭地设置箱形的腔门，在该腔门内形成上述供气腔。也就是，也可以把该腔门内的空间作为上述供气腔加以使用。此时，也可以把上述腔门的正面内侧形成为曲面状，在上述供气腔的正面侧设置曲面状的内壁。进而，也可以在上述供气腔与上述供气通道的连接部，设置对由上述供气通道流入到该供气腔内的空气进行整流的风向板。

发明的效果