[发明专利]放射氟化

权利要求书

1.一种放射氟化方法，所述方法包括：

(i)用适合的[¹⁸F]-氟离子源放射氟化式Ia的叠氮化物，以得到式Ib的放射氟化叠氮化物：

其中所述放射氟化在适用于所述放射氟化的溶剂中进行，并且其中：

R¹为C_1-10亚烷基、C_3-10亚环烷基、C_4-20亚环烷基-亚烷基、C_5-14亚芳基、C_6-20亚烷基-亚芳基、C_1-10亚杂烷基、C_2-10亚杂环烷基、C_3-13亚杂芳基、C_6-20亚杂烷基-亚芳基、C_6-20亚烷基-亚杂芳基或C_6-20亚杂烷基-亚杂芳基，其中R¹具有0-3个选自C_1-4烷基、C_5-10芳基、氨基、羟基、卤素或硝基的取代基，且其中R¹任选包含一个或多个保护基；

并且LG为适合的离去基团；

(ii)还原式Ib的放射氟化叠氮化物，以得到式Ic的放射氟化胺：

H₂N-R¹-¹⁸F

(Ic)

其中所述还原在适用于所述还原的溶剂中进行，并且其中R¹如步骤(i)中定义。

2.权利要求1的方法，所述方法还包括：

(iii)使式Ic的放射氟化胺与式Id的化合物反应：

其中：

R²为选自C_1-10烷基、C_1-10杂烷基、C_3-10环烷基、C_4-20环烷基-烷基、C_5-14芳基、C_3-13杂芳基、C_6-20亚烷基-芳基、C_6-20亚杂烷基-芳基、C_6-20亚烷基-杂芳基、C_6-20亚杂烷基-杂芳基的R^*基团，其中R^*任选被一个或多个选自卤素、氨基、羟基或硝基的取代基取代，或者R²为生物分子或纳米颗粒，并且其中R²任选包含一个或多个保护基；并且

R³为适合的活化基团(AG)，以得到式IIa的放射氟化酰胺：

其中R¹如权利要求1所定义，R²如式Id所定义；

或者；

R³为R^*基团，以得到式IIb的放射氟化胺：

其中R¹如权利要求1所定义，R²如式Id所定义；

并且其中所述反应步骤(iii)在适用于所述反应步骤的溶剂中进行。

3.权利要求1或权利要求2的方法，其中R¹为C_1-6亚烷基、C_1-6亚杂烷基、C_3-10亚环烷基、C_5-14亚芳基和C_3-13亚杂芳基。

4.权利要求1至3中任一项的方法，其中LG选自Cl、Br、I、甲苯磺酸酯基(OTs)、硝基苯磺酸酯基(ONs)、对溴苯磺酸酯基(OBs)、甲磺酸酯基(OMs)和三氟甲磺酸酯基(OTf)。

5.权利要求1至4中任一项的方法，其中步骤(i)的所述适合[¹⁸F]-氟离子源为[¹⁸F]-氟离子盐，所述氟离子盐包含阳离子反荷离子，所述阳离子反荷离子选自铷、铯、与穴状配体络合的钾或四烷基铵盐。

6.权利要求1至5中任一项的方法，其中所述还原步骤(ii)在酸的存在下由元素铜催化。

7.权利要求2至6中任一项的方法，其中R²为R^*基团。