[发明专利]多层膜及其制造方法有效
申请号: | 200980146323.9 | 申请日: | 2009-11-19 |
公开(公告)号: | CN102216073A | 公开(公告)日: | 2011-10-12 |
发明(设计)人: | 马承乐;金东烈;金琪哲;柳相旭;李昊俊;黄樯渊 | 申请(专利权)人: | LG化学株式会社 |
主分类号: | B32B27/18 | 分类号: | B32B27/18;B32B27/08 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;徐琳 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层 及其 制造 方法 | ||
1.一种多层膜,该多层膜包括:
聚合物基板;和
使用可UV固化和可热固化的缓冲组合物的UV固化和热固化产物在所述聚合物基板的上表面和下表面上形成的缓冲层。
2.根据权利要求1所述的多层膜,其中,所述聚合物基板具有单层结构或包括两层以上的聚合物层的层叠结构。
3.根据权利要求1所述的多层膜,其中,所述聚合物基板包括选自单一聚合物、两种以上的聚合物的聚合物混合物、包含有机添加剂的聚合物复合物和包含无机添加剂的聚合物复合物中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的多层膜,其中,所述单一聚合物或两种以上的聚合物的混合物的聚合物包含选自聚降冰片烯、芳族富勒烯聚酯、聚醚砜、双酚A聚砜、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯、聚碳酸酯和环烯烃共聚物中的至少一种。
5.根据权利要求3所述的多层膜,其中,所述包含无机添加剂的聚合物复合物为包含分散在聚合物基体中的粘土纳米物质的聚合物-粘土纳米复合物。
6.根据权利要求1所述的多层膜,其中,所述缓冲层包含等于或大于10wt%且小于100wt%量的未固化的环氧基团。
7.根据权利要求1所述的多层膜,其中,所述缓冲层包含有机硅烷和金属醇盐中的至少一种的水解产物和可固化环氧树脂的混合物的UV-固化和热固化产物。
8.根据权利要求7所述的多层膜,其中,所述有机硅烷包括选自下面化学式1-3表示的化合物中的至少一种,所述金属醇盐包括选自下面化学式4表示的化合物中的至少一种,以及所述可固化环氧树脂包括选自下面化学式5-10表示的脂环环氧树脂和下面化学式11表示的异氰尿酸三缩水甘油酯中的至少一种:
[化学式1]
(R1)m-Si-X(4-m)
[化学式2]
(R1)m-O-Si-X(4-m)
[化学式3]
(R1)m-N(R2)-Si-X(4-m)
其中,各X可相同或不同,且各自表示H、卤素、C1-C12的烷氧基、酰氧基、烷基羰基、烷氧基羰基或-N(R2)2;
各R1可相同或不同,并且各自表示C1-C12烷基、C2-C12链烯基、炔基、C6-C20芳基、芳烷基、烷芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔基、炔基芳基、卤素、酰胺基、醛基、酮基、烷基羰基、羧基、巯基、氰基、羟基、C1-C12烷氧基、C1-C12烷氧基羰基、磺酸基、磷酸基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧基或乙烯基;
R2为H或C1-C12烷基;以及
m为1-3的整数;
[化学式4]
M-(R3)z
其中,M为选自铝、锆和钛中的金属元素;
各R3可相同或不同,并且各自表示卤素或C1-C12烷基、烷氧基、酰氧基或羟基;以及
Z为整数3或4;
[化学式5]
[化学式6]
[化学式7]
[化学式8]
其中,R20表示烷基或三羟甲基丙烷残基,并且q为1-20;
[化学式9]
其中,R21和R22可相同或不同,并且各自表示H或CH3,且r为0-2;
[化学式10]
其中,s为0-2;
[化学式11]
9.根据权利要求7所述的多层膜,其中,基于100重量份的固化产物,所述有机硅烷和金属醇盐中的至少一种的水解产物以5-95重量份的量存在,以及所述可固化环氧树脂以5-95重量份的量存在。
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