[发明专利]多层膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200980146323.9 申请日: 2009-11-19
公开(公告)号: CN102216073A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 马承乐;金东烈;金琪哲;柳相旭;李昊俊;黄樯渊 申请(专利权)人: LG化学株式会社
主分类号: B32B27/18 分类号: B32B27/18;B32B27/08
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人: 朱梅;徐琳
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 多层 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种多层膜和制造该多层膜的方法,更具体而言,涉及一种具有改善的耐热性和高温平整度(high-temperature flatness)的多层膜和制造该多层膜的方法。根据35U.S.C.§119该申请要求了在2008年11月19日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2008-0115391号的优先权,在此,将其公开的全部内容以引用的方式并入本文。

背景技术

一般而言,在多种电子器件(包括有机或无机发光器件、显示器件和光伏器件)中使用的玻璃板在透光性、热膨胀系数和耐化学性方面具有令人满意的性能。然而,这样的玻璃板易碎并且坚硬,因此在处理它们时需要特别小心。因此,使用这种玻璃板的产品的设计受到了限制。

由于上述问题,已经进行了许多尝试以用塑料代替在电子器件中使用的这种玻璃板,塑料典型的特征在于:重量轻、优异的抗冲击强度和高挠性。然而,当与玻璃板相比时,目前市售的塑料膜具有一些缺点,而因此需要改进塑料膜的物理性能。特别是,当在高于玻璃化转变温度(Tg)的温度下处理已知的塑料膜时,它们会发生卷曲、粘连(blocking)和松垂(sagging),而因此难以进行辊压处理(roll processing)。

发明内容

本发明的一个实施方式涉及提供一种具有改善的耐热性和高温平整度的多层膜,因此有利于在低于其玻璃化转变温度(Tg)的温度下进行处理,并且易于在高于其玻璃化转变温度(Tg)的温度下进行处理,同时抑制或完全防止卷曲、粘连和松垂现象。

本发明的另一个实施方式涉及提供一种制造上述多层膜的方法。

根据本发明的一个实施方式,提供了一种多层膜,该多层膜包括聚合物基板和通过使用可UV固化和可热固化的缓冲组合物的UV-固化和热固化产物在所述聚合物基板的上表面和下表面上形成的缓冲层。所述聚合物基板可以具有单层结构或包括两层以上的聚合物层的层叠结构。

根据本发明的另一个实施方式,提供了一种制造多层膜的方法,该方法包括:(a)用可UV固化和可热固化的缓冲涂料组合物涂布聚合物基板的一个表面以形成缓冲层;(b)对在步骤(a)中形成的缓冲层进行UV固化;(c)用可UV固化和可热固化的缓冲组合物涂布所述聚合物基板(其一个表面上具有缓冲层)的另一表面以形成缓冲层;(d)对在步骤(c)中形成的缓冲层进行UV固化;和(e)对设置在所述聚合物基板的两个表面上的UV-固化缓冲层进行热固化。

根据本发明的另一个实施方式,提供了一种制造多层膜的方法,该方法包括:(a)用可UV固化和可热固化的缓冲涂料组合物涂布聚合物基板的一个表面以形成缓冲层;(b)对该缓冲层进行UV固化;(c)对该UV-固化缓冲层进行热固化以形成具有包含与聚合物基板层叠的缓冲层的结构的多层膜;(d)重复步骤(a)-(c)以提供另一个具有与步骤(c)所述相同结构的多层膜;和(e)使在步骤(c)和(d)中得到的多层膜以使它们的聚合物基板表面彼此接触形成具有对称结构的多层膜的方式彼此层叠。

根据本发明的另一个实施方式,提供了一种包含上述多层膜的电子器件。

根据本发明的另一个实施方式,提供了一种用于形成缓冲层的缓冲组合物,所述缓冲组合物包含有机硅烷和金属醇盐中的至少一种的水解产物的溶胶状组合物和可固化的环氧树脂。特别地,有机硅烷和金属醇盐中的至少一种的水解产物的溶胶状组合物可以以5-95重量份的量存在,以及所述可固化的环氧树脂可以以5-95重量份的量存在。

附图说明

图1为根据本发明的一个实施方式的多层膜的剖视图;

图2为根据本发明的另一个实施方式的多层膜的剖视图;

图3为显示与根据比较实施例3所得的多层膜相比较的根据实施例1和4所得的多层膜的线性膨胀系数对温度的函数图表;

图4为显示根据实施例1的具有高平整度的多层膜的照片;

图5为显示根据比较实施例1的其中发生卷曲的多层膜的照片;以及

图6为显示根据比较实施例3的具有较差平整度的多层膜的照片。

附图标记说明:

100:聚合物基板

110:缓冲层

111:粘合层

具体实施方式

参照附图,下面将更加详细地描述本发明的示例性的实施方式。然而,可以以不同的形式实现本发明,而不应解释成限于在这里设定的实施方式。而是,提供的这些实施方式使得公开更加充分和完整,并将向本领域的技术人员充分传达本发明的范围。在整个公开中,相似的附图标记指的是贯穿本发明的各个附图和本发明的实施方式的相似的部件。

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