[发明专利]具有接合垫下方的沟槽的特征的RF器件和方法有效
申请号: | 200980148878.7 | 申请日: | 2009-11-25 |
公开(公告)号: | CN102239552A | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
发明(设计)人: | 杰弗里·K·琼斯;玛格丽特·A·希马诺夫斯基;米歇尔·L·米耶拉;任小伟;韦恩·R·布格尔;马克·A·贝内特;科林·克尔 | 申请(专利权)人: | 飞思卡尔半导体公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/768 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 陆锦华;刘光明 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 接合 下方 沟槽 特征 rf 器件 方法 | ||
技术领域
本发明通常涉及半导体(SC)器件和集成电路(IC)及其制造方法,并且更具体地,涉及用于提供包含接合垫下方的填充了绝缘体的沟槽的特征的RF(射频)电源器件和IC的结构和方法。
背景技术
射频(RF)电源器件和集成电路(IC)的性能对与到器件或IC的连接相关联的端子阻抗特别敏感。对于其中常常使用低电阻率衬底(例如,<0.1Ohm-cm)来增强有源器件性能的金属氧化物半导体(MOS)场效应晶体管(MOSFET)和横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)场效应晶体管(FET)而言情况尤其如此。对这样的低电阻率衬底的电磁(E-M)耦合可能使得难以或不可能在这样的器件的输入-输出(I/O)端子处提供期望的阻抗匹配,并且保持期望的功率输出和效率。此外,这样的E-M耦合可能引起衬底中的涡电流损失,这可能进一步降低器件和IC性能。这些问题在高外围器件和更高频率(例如,>~1GHz)器件的情况下变得更加严重,因为固有器件阻抗随着增加的外围和增加的频率而下降,并且E-M损耗随着端子连接(例如,接合垫)的尺寸的增加而增加。
图1示出了场效应晶体管(FET)24(例如,MOSFET)的简化电气示意性框图10,场效应晶体管(FET)24的栅极14通过输入互连13被耦合到输入接合垫(IP-BP)12,并且其漏极16通过输出互连41被耦合到输出接合垫(OP-BP)35。在RF频率下,互连13和41能够用作传输线,并且因此也称为输入传输线(IP-TL)13和输出传输线(OP-TL)41。外部连接11(例如,丝焊或其它互连)在输入接合垫(IP-BP)12处看到输入阻抗Z′in,并且外部连接19(例如,丝焊或其它互连)在输出接合垫(OP-BP)35处看到输出阻抗Z′out。输入互连(例如,传输线(IP-TL))13将输入接合垫(IN-BP)12耦合到在栅极14处具有固有输入阻抗Zin的MOSFET 24,并且输出互连(例如,传输线(OP-TL))41将在漏极16处具有固有输出阻抗Zout的FET 24的漏极输出端16耦合到输出接合垫(OP-BP)35。图2示出了图1的框图10的简化等效电路图10′。电导G1、G2、电容C1、C2、电感L1和电阻R1表示IN-BP 12。电导G3、G4、电容C3、C4、电感L2和电阻R2表示IN-TL 13。用固有阻抗Zin和Zout及放大器A来表示晶体管24。电导G5、G6、电容C5、C6、电感L3和电阻R3表示OP-TL 41。电导G7、G8、电容C7、C8、电感L4和电阻R4表示OP-BP 35。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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