[发明专利]多光束曝光扫描方法和设备,以及用于制造印刷版的方法无效
申请号: | 200980148960.X | 申请日: | 2009-12-03 |
公开(公告)号: | CN102239449A | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
发明(设计)人: | 宫川一郎 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;B41C1/05;G03F7/24 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 陆锦华;刘光明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光束 曝光 扫描 方法 设备 以及 用于 制造 印刷 | ||
技术领域
本发明涉及一种多光束曝光扫描方法和设备。更加具体地,本发明涉及一种适用于例如柔性版的印刷版的制造的多光束曝光技术,并且涉及一种向其应用多光束曝光技术的印刷版的制造技术。
背景技术
传统上,已经公开了通过使用能够同时地照射多个激光束的多光束头而在板材的表面中雕刻凹进形状的技术(专利文献1)。当利用这种多光束曝光技术对板进行雕刻时,因为由于相邻光束引起的热的影响,非常难以稳定地形成诸如小点和细线的精细形状。
为了解决这种问题,专利文献1提出一种构造,其执行所谓的交错曝光以减轻在板材的表面上形成的光束点阵列中的相邻光束点之间的相互热效应。即,专利文献1采用如下一种方法,该方法以相应于雕刻密度的雕刻节距的两倍或者更多倍的间隔在板材的表面中形成多个激光点,从而在于第一曝光扫描中形成的扫描线之间提供间隔,并且该方法在第二和随后的扫描中曝光在第一曝光扫描中形成的扫描线之间的扫描线。
引用列表
专利文献
PTL1:日本专利申请特开No.09-85927
发明内容
技术问题
然而,在于专利文献1中描述的方法中,为了完全地减轻相邻光束的影响,在光束位置之间的间隔需要被设为足够地大于在板材的表面上的光束直径,并且在实践中,在扫描线之间的间隔需要被设为对应于几个像素(几条线)。因此,在图像形成光学系统中使用的透镜的像差成为问题,这引起很多实际限制,如使得难以形成具有精确的扫描线间隔的光束阵列,以及使得光学系统变得复杂。
已经鉴于上述情况而做出本发明。本发明的一个目的在于:提供一种多光束曝光扫描方法和设备,该方法和设备能够有效地减轻由与多光束曝光相关联的由相邻光束产生的热的影响,并且能够高度精确地形成例如精细形状的期望望的形状;和提供一种向其应用该多光束曝光扫描方法和设备的印刷版的制造方法。
问题解决方案
为了实现上述目的,根据本发明的一个方面的一种多光束曝光扫描方法,其通过利用多个光束同时地照射对象物而多次曝光和扫描相同扫描线以雕刻对象物的表面,其特征在于包括:利用第一光束组形成第一形状的第一曝光扫描过程,其中,该第一形状限定将在对象物的曝光表面上保留的目标平坦形状和围绕目标平坦形状的倾斜部的轮廓形状;和通过利用第二光束组来曝光和扫描与在第一曝光扫描过程中曝光和扫描的那些相同的扫描线,从而形成第二形状的第二曝光扫描过程,其中,该第二形状限定目标平坦形状和围绕目标平坦形状的倾斜部的最终形状。
在本发明中,“对象物”可以是一种记录介质。
在本发明中,优选的是,在最终形状的附近照射到对象物(记录介质)的第二光束组的能量低于照射到记录介质的第一光束组的能量。为此目的,第二光束组的输出功率受到控制,以变得低于第一光束组的输出功率。
此外,根据本发明的另一个方面的一种多光束曝光扫描方法,其通过利用多个光束同时地照射对象物而多次曝光和扫描相同扫描线以雕刻对象物的表面,其特征在于包括:在将在对象物的曝光表面上保留的目标平坦形状的边缘部中,利用第一光束组形成沿着第一方向和不同于第一方向的第二方向中的一个方向的第一边缘部的第一曝光扫描过程;以及,在第一曝光扫描过程之后,利用第二光束组形成沿着与第一方向和第二方向中的所述一个方向不同的另一个方向的第二边缘部的第二曝光扫描过程。
此外,根据本发明的另一个方面的一种多光束曝光扫描方法,其通过利用多个光束同时地照射对象物而多次曝光和扫描相同扫描线以雕刻对象物的表面,其特征在于包括:利用第一光束组绘制和雕刻将在对象物的曝光表面上保留的目标平坦形状的边缘部的线图,从而仅仅形成边缘部的第一曝光扫描过程;和在第一曝光扫描过程之后,通过利用第二光束组来曝光和扫描线图的外侧区域而形成围绕目标平坦形状的倾斜部的第二曝光扫描过程。
此外,根据本发明的另一个方面的一种多光束曝光扫描方法,其通过利用多个光束同时地照射对象物而多次曝光和扫描相同扫描线以雕刻对象物的表面,其特征在于:当将在对象物的曝光表面上保留的目标平坦形状区域和目标平坦形状区域的周边区域被设为第一区域,并且所述第一区域外侧的区域被设为第二区域时,第一区域经受交错曝光,在交错曝光中使用具有被设为扫描线间隔的N倍(N是2或者更大的整数)的相邻光束间隔的光束组,并且在交错曝光中在使得待被曝光的扫描线不同的情况下,通过多次执行扫描而连续地曝光在曝光的扫描线之间的未曝光扫描线;并且第二区域经受非交错曝光,非交错曝光利用具有等于扫描线间隔的相邻光束间隔的光束组来执行雕刻。
本发明的有利效果
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