[发明专利]光固化性组合物及表面具有微细图案的成形体的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光固化性组合物及表面具有微细图案的成形体的制造方法。

背景技术

作为在光学构件、记录介质、半导体装置等的制造过程中在短时间内形成微细图案的方法，已知如下所述的方法(纳米压印法)：将表面具有该微细图案的反转图案的模具按压于配置于基板表面的光固化性组合物，对该光固化性组合物照射光，使该光固化性组合物固化，从而在基板表面形成微细图案(参照专利文献1、2)。

但是，该方法中，因为光固化性组合物的固化物与模具密合，所以难以将固化物和模具分离。因此，需要在模具表面涂布脱模剂，或者使用能形成脱模性好的固化物的光固化性组合物。

但是，如果使用脱模剂，则由于脱模剂自身的膜厚、脱模剂的涂布不均等，难以精密地转印模具的反转图案。

另一方面，作为能形成脱模性好的固化物的光固化性组合物，提出有下述组合物。

(1)包含含氟单体、不含氟的单体、含氟表面活性剂或含氟聚合物、光聚合引发剂的光固化性组合物(参照专利文献3)。

但是，用(1)的光固化性组合物难以得到具有合适的柔软性(硬度：50～85)的固化物。因此，将固化物和模具分离时，形成有微细图案的固化物容易破损，转印性有时会下降。

作为能形成具有柔软性的固化物、转印性优良的光固化性组合物，提出有下述组合物。

(2)包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物、双官能单体、光聚合引发剂的光固化性组合物(参照专利文献4)。

但是，(2)的光固化性组合物的固化物由于密合性好，因此脱模性不足。

此外，在纳米压印法中，实施将光固化性组合物配置于基板表面或模具表面的工序。因此，要求光固化性组合物具备无需特别的操作即可涂布且不会从基板或模具的表面流出的性质。因此，对于纳米压印法所用的光固化性组合物，能适当地调整粘度这一点也很重要。

专利文献1：美国专利第6696220号说明书

专利文献2：日本专利特开2004-071934号公报

专利文献3：国际公开第2006/114958号文本

专利文献4：日本专利特开2006-152074号公报

发明的揭示

本发明提供可获得同时兼具脱模性和柔软性的固化物的光固化性组合物以及可制造表面具有精密地转印模具的反转图案而得的微细图案的柔软的成形体的方法。本发明还提供为了能简便地涂布于基板或模具的表面而能适当地调整粘度的光固化性组合物。

本发明的光固化性组合物的特征在于，包含：化合物(A)，该化合物(A)具有2个以上的氨基甲酸酯键，具有2个以上的(甲基)丙烯酰氧基，且质均分子量小于2000，且25℃下的粘度在20Pa·s以下；化合物(B)，该化合物(B)具有氟原子，且具有1个以上的碳-碳不饱和双键，该化合物(B)不为化合物(A)；化合物(C)，该化合物(C)具有1个(甲基)丙烯酰氧基，该化合物(C)不为化合物(B)；光聚合引发剂(D)；含氟表面活性剂(E)；化合物(A)、化合物(B)、化合物(C)、光聚合引发剂(D)和含氟表面活性剂(E)的总量100质量％中，化合物(A)为10～50质量％，化合物(B)为5～35质量％，化合物(C)为15～75质量％，光聚合引发剂(D)为1～12质量％，化合物(E)为0.1～5质量％。

较好是本发明的光固化性组合物实质上不含溶剂。

较好是本发明的光固化性组合物还包含相对于化合物(A)、化合物(B)、化合物(C)、光聚合引发剂(D)和含氟表面活性剂(E)的总量100质量份在40质量份以下的化合物(F)，该化合物(F)具有2个以上的(甲基)丙烯酰氧基，该化合物(F)不为化合物(A)和化合物(B)。

较好是本发明的光固化性组合物在25℃下的粘度为30～500mPa·s。

本发明的表面具有微细图案的成形体的制造方法的特征在于，包括：使本发明的光固化性组合物与表面具有所述微细图案的反转图案的模具的具有该反转图案的表面接触的工序；在所述光固化性组合物与所述模具的表面相接触的状态下对所述光固化性组合物照射光，使所述光固化性组合物固化而形成固化物的工序；将所述模具与所述固化物分离，得到表面具有微细图案的成形体的工序。